新金屬芯片能提高存儲速度百倍
近日,據(jù)英國《自然·物理學》雜志發(fā)表的一項研究,一個美國聯(lián)合研究團隊利用層狀二碲化鎢制成了二維(2D)金屬芯片,其厚度僅三個原子!在更節(jié)能的同時,儲存速度提高了100倍之多,為開發(fā)下一代數(shù)據(jù)存儲材料奠定了基礎。 當今世界所產(chǎn)生的數(shù)據(jù)比以往任何時候都多,然而我們當前的存儲系統(tǒng)已接近大小和密度的極限,因此迫切需要相關技術革命?茖W家正在研究數(shù)據(jù)的其他保存形式,包括存儲在激光蝕刻的載玻片、冰冷分子、單個氫原子、全息膠片甚至DNA上。 在這次的新研究中,美國斯坦福大學、加州大學伯克利分校和德克薩斯A&M大學的研究人員嘗試了另一種方法,他們研發(fā)的新系統(tǒng)由二碲化鎢金屬組成,排列成一堆超薄層,每層僅有3個原子厚。其可代替硅芯片存儲數(shù)據(jù),且比硅芯片更密集、更小、更快,也更節(jié)能。 研究人員將數(shù)據(jù)編碼到二維材料 研究人員對二碲化鎢薄層結(jié)構施加微小電流,使其奇數(shù)層相對于偶數(shù)層發(fā)生穩(wěn)定的偏移,并利用奇偶層的排列來存儲二進制數(shù)據(jù)。數(shù)據(jù)寫入后,他們再通過一種稱為貝利曲率的量子特性,在不干擾排列的情況下讀取數(shù)據(jù)。 團隊表示,與現(xiàn)有的基于硅的數(shù)據(jù)存儲系統(tǒng)相比,新系統(tǒng)具有巨大優(yōu)勢——它可以將更多的數(shù)據(jù)填充到極小的物理空間中,并且非常節(jié)能。此外,其偏移發(fā)生得如此之快,以至于數(shù)據(jù)寫入速度可以比現(xiàn)有技術快100倍。 |