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具有直壁或傾斜側(cè)壁的二元光柵已成為許多光學(xué)應(yīng)用中的關(guān)鍵部件。 感謝納米壓印技術(shù),使小尺寸的光柵的制造已經(jīng)變得可行。 VirtualLab Fusion采用內(nèi)置的傅里葉模態(tài)方法(FMM,也稱為RCWA)和不同的優(yōu)化算法,為二元光柵提供了完整的用戶友好的設(shè)計(jì)工作流程,和隨后的制造誤差分析,如圓邊效應(yīng)。 %oTBh*
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