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    [推薦]使用干涉儀的光學(xué)測(cè)量 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2020-08-04
    光學(xué)計(jì)量學(xué)是精確測(cè)量的重要技術(shù)。例如,它經(jīng)常被用于表面測(cè)試,因此在質(zhì)量控制中發(fā)揮著重要作用。VirtualLab Fusion可以幫助您對(duì)各種類型干涉儀進(jìn)行建模,并將不同的光學(xué)表面和系統(tǒng)部件、甚至是傾斜和位移等對(duì)準(zhǔn)錯(cuò)誤都包含在模擬中。我們以兩個(gè)廣泛使用的干涉儀--Mach-Zehnder型和Fizeau型為例進(jìn)行演示。 s 2E}+ #  
    m} V,+E  
    Mach-Zehnder干涉儀 Zwc b5\Q  
    z7CYYU?  
    我們?cè)赩irtualLab Fusion中建立了一個(gè)Mach-Zehnder干涉儀,并演示了元件的傾斜和位移是如何影響干涉條紋的。 @EQ{lGpU3  
    OhTO*C8  
    用于光學(xué)檢測(cè)的Fizeau干涉儀 [kXe)dMX8  
    M_e! s}F  
    在非序列場(chǎng)追跡技術(shù)的幫助下,建立了一個(gè)Fizeau干涉儀,并顯示了幾個(gè)不同測(cè)試面的干涉條紋。 X>CYKRtb  
    c*h5lM'n6  
    V$@2:@8mo  
    QQ:2987619807 7+c@pEU]  
     
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