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摘要 UqJ}5{r t /1A3
Sw 高NA物鏡廣泛用于光學(xué)光刻，顯微鏡等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考慮光的矢量性質(zhì)。 使用VirtualLab對(duì)這種鏡頭進(jìn)行光線追跡和場(chǎng)追跡分析非常方便。通過場(chǎng)追跡，可以清楚地展示不對(duì)稱焦斑，這源于矢量效應(yīng)。相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，可以讓用戶深入了解矢量效應(yīng)。 @K{1O| V NF9fPAF%;  [ 1Cs xLID @9Hbu 建模任務(wù) |"t)#BUtL N$cm;G=]  s.VtmAH 概觀 L;jzDng< K ?R*
)_  `cu W^/c 光線追跡仿真 l;+nL[%` RRXnj#<g •首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作為仿真引擎。 ~<
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