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摘要 d'p]F~a :'hc&wk` 高NA物鏡廣泛用于光學光刻,顯微鏡等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考慮光的矢量性質(zhì)。 使用VirtualLab對這種鏡頭進行光線追跡和場追跡分析非常方便。通過場追跡,可以清楚地展示不對稱焦斑,這源于矢量效應(yīng)。相機探測器和電磁場探測器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性,可以讓用戶深入了解矢量效應(yīng)。 ?xkw~3Yfi 5pC+*n. .AHf]X0 ]{sx#|_S 建模任務(wù) 47<fg&T 04o>POR ]Q8[,HTG 概觀 "INIP? d
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