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由于電磁場的矢量性質(zhì)，偏振效應(yīng)通常在現(xiàn)代光學(xué)研究和工程中起重要作用。線性偏振鏡（例如線柵偏振鏡）可能是用于操縱偏振態(tài)的最常用的光學(xué)元件。 盡管在大多數(shù)情況下，偏振鏡設(shè)計(jì)用于傍軸情況，但它們也用于非傍軸設(shè)置，例如， 在高NA透鏡后面的聚焦區(qū)域或測量高傾斜偏振鏡后面的Stokes參數(shù)。 在VirtualLab Fusion中，我們?yōu)榉前S情況下的偏振鏡提供了一個(gè)模型。 此外，VirtualLab獲得的仿真結(jié)果與參考文獻(xiàn)具有良好的一致性。 K@z zseQ}=
=+j>?Yi 聚焦區(qū)域處的偏振鏡 S<V_ _ Sv +]%d'h 為了在非傍軸設(shè)置中模擬偏振鏡，在VirtualLab中實(shí)現(xiàn)了理想化模型，并且呈現(xiàn)了偏振鏡在聚焦區(qū)域中的效果。 ^?)o,djY& |_J[n !~f7 傾斜偏振鏡背后的Stokes參數(shù) v"&Fj ki ^c )Tqn 使用理想化的非傍軸偏振鏡模型，研究了偏振鏡與來自不同角度的入射波的相互作用，并且使用Stokes參數(shù)來表征結(jié)果。 UR&Uwa&. 2So7fZa^wg
9ZEF%&58Y QQ：2987619807 G.}
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