深紫外、極紫外光刻、先進(jìn)光源等現(xiàn)代光學(xué)工程牽引驅(qū)動(dòng)超精密光學(xué)技術(shù)持續(xù)發(fā)展，超精密光學(xué)制造要求與之精度相匹配的超高精度檢測(cè)技術(shù)。作為核心技術(shù)指標(biāo)之一的面形精度通常要求達(dá)到納米、深亞納米甚至幾十皮米量級(jí)，超高精度面形干涉檢測(cè)技術(shù)挑戰(zhàn)技術(shù)極限，具有重要研究意義和應(yīng)用價(jià)值。本文分析了面形干涉檢測(cè)技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)，主要介紹了中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所近年來(lái)在超高精度面形干涉檢測(cè)技術(shù)相關(guān)研究進(jìn)展。
