工作中需要用TracePro做一些介質(zhì)內(nèi)部散射特性仿真，需要的光線數(shù)目非常多，要幾百萬條以上。 *g
MP_I  
最開始用個人電腦跑，發(fā)現(xiàn)效率太低，后來公司配了一臺高性能工作站，48核，128GB內(nèi)存，P6000顯卡，配置夠高了， :usBeho  
結(jié)果發(fā)現(xiàn)仿真速度比個人電腦慢太多太多，原來10min跑完的，工作站要一個多小時，到底是怎么回事？ u KdX4  
哪位大神遇到過？是不是需要在哪兒配置一下？ .`8,$"`4)  

沒人回答，自己搞清楚了

光線條數(shù)太多，可以修改模式，分析模式變仿真模式，可以節(jié)約計算機資源。

同樣的問題，你怎么解決掉的

virtuexu:沒人回答，自己搞清楚了 (2020-10-27 13:57)  pwC/&bu  

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能請教一下是什么原因嗎？我也遇到了同樣的問題~

光桿司令:能請教一下是什么原因嗎？我也遇到了同樣的問題~ (2022-11-18 23:30)  \^cn}db)  

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不好意思，才看到。時間比較久遠了，有點忘了。 +h/$_5  
好像是老版本tracepro對多核處理器的支持不好，而且這種光線追跡很吃CPU資源，CPU主頻越高越好。后來我都改用LightTools仿真了

virtuexu:不好意思，才看到。時間比較久遠了，有點忘了。 R&QT  'i  
好像是老版本tracepro對多核處理器的支持不好，而且這種光線追跡很吃CPU資源，CPU主頻越高越好。后來我都改用LightTools仿真了 (2022-12-13 10:55)  ]V_9[=%  

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好的，謝謝~