ZEMAX光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計實(shí)戰(zhàn)	Zemax光學(xué)設(shè)計從基礎(chǔ)到實(shí)踐	成像衍射光學(xué)元件設(shè)計及應(yīng)用	現(xiàn)代光學(xué)與光子學(xué)技術(shù)
訊技光電:VirtualLab Fusion獨(dú)家供應(yīng)商	微小光學(xué)與微透鏡陣列	光學(xué)設(shè)計與光學(xué)元件	計算光學(xué)帶來的成像革命

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[原創(chuàng)]泰伯(TALBOT)光刻機(jī) [復(fù)制鏈接]

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只看樓主倒序閱讀樓主發(fā)表于: 2020-11-16

關(guān)鍵詞：光刻機(jī)

作為最著名的衍射效應(yīng)之一，泰伯(Talbot)效應(yīng)可以用于光刻技術(shù)中以制造周期性納米結(jié)構(gòu)。繼I.-H. Lee等人，我們在六邊形網(wǎng)格上構(gòu)造了一個圓錐形光柵掩膜版，并以深度方式模擬了Talbot圖像的生成。特別是，由于光刻過程中使用的紫外光是非偏振的，因此我們在示例中演示了如何為VirtualLab Fusion中的光柵模擬建模非偏振光。

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