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ASML已完成設(shè)計制造1nm芯片的EUV光刻機  據(jù)稱在當前臺積電、三星的7nm、5nm制造中已經(jīng)引入了NA=0.33的EUV曝光設(shè)備，2nm之后需要更高分辨率的曝光設(shè)備，也就是NA=0.55。好在ASML已經(jīng)完成了0.55NA曝光設(shè)備的基本設(shè)計（即NXE：5000系列），預計在2022年實現(xiàn)商業(yè)化。 至于上文提到的尺寸為何大幅增加就是光學器件增大所致，潔凈室指標也達到天花板。 阿斯麥目前在售的兩款極紫外光刻機分別是TWINSCAN NXE:3400B和TWINSCAN NXE:3400C，3600D計劃明年年中出貨，生產(chǎn)效率將提升18%。 |
最新評論
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木晗楠 2020-12-01 16:28上次看都還只是幾nm這么快1nm了
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fiberlaser 2020-12-01 18:20這太厲害了，潔凈室，激光技術(shù)等都快要到天花板了吧
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wangjin001x 2020-12-01 19:25ASML已完成設(shè)計制造1nm芯片的EUV光刻機
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不懂想問 2020-12-01 20:11ASML已完成設(shè)計制造1nm芯片的EUV光刻機
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te67f42 2020-12-01 20:502020年11月中旬，在日本東京舉辦了ITF論壇。論壇上，與ASML（阿斯麥）合作研發(fā)光刻機的比利時半導體研究機構(gòu)IMEC公布了3nm及以下制程的在微縮層面技術(shù)細節(jié)。
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mirrors 2020-12-01 20:56🐂🍺
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星空38 2020-12-01 20:57據(jù)稱在當前臺積電、三星的7nm、5nm制造中已經(jīng)引入了NA=0.33的EUV曝光設(shè)備，2nm之后需要更高分辨率的曝光設(shè)備，也就是NA=0.55。好在ASML已經(jīng)完成了0.55NA曝光設(shè)備的基本設(shè)計（即NXE：5000系列），預計在2022年實現(xiàn)商業(yè)化。
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luyk 2020-12-01 21:44時代在進步，未來可期
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譚健 2020-12-01 21:53科技在不斷進步
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neikoshabo 2020-12-01 23:15厲害了！
