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上海光機(jī)所在提升電子束蒸發(fā)沉積激光薄膜的長期性能穩(wěn)定研究中取得新進(jìn)展

發(fā)布:cyqdesign 2020-12-09 20:01 閱讀:7021
近期,中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所薄膜光學(xué)實(shí)驗(yàn)室在提升電子蒸發(fā)沉積激光薄膜的長期性能穩(wěn)定研究中取得新進(jìn)展,實(shí)現(xiàn)了低應(yīng)力、光譜和機(jī)械性能長期穩(wěn)定的電子束激光薄膜制備。相關(guān)研究成果發(fā)表在《光學(xué)材料快報(bào)》(Optical Materials Express)。 z5fE<=<X_W  
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電子束蒸發(fā)沉積薄膜因其激光損傷閾值高,光譜均勻性好且易實(shí)現(xiàn)大口徑制備而廣泛應(yīng)用于世界上各大型高功率激光系統(tǒng)中。然而,電子束蒸發(fā)沉積薄膜的多孔結(jié)構(gòu)特性易與水分子相互作用,使得薄膜的各項(xiàng)性能極易受環(huán)境條件(尤其是濕度)的影響。即便是在可控的環(huán)境下,電子束蒸發(fā)沉積薄膜的性能也會(huì)隨時(shí)間而變化。 Z ;.-UXat  
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