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請問FRED這套軟件針對一般光源側(cè)入光式的背光模塊是否可以詳細(xì)仿真光源透過LGP上面油墨印刷后的光源軌跡(整個(gè)面的光均勻度)？LGP上會印刷光學(xué)級油墨點(diǎn)(Pattern)，我們會控制Pattern直徑的大小，來控制整個(gè)背光模塊的均勻性，是否有側(cè)入光式的范例(LGP Pattern 光學(xué)仿真軌跡)？ 5cf?u3r!qJ
| eCVq(R
Ans:可以，光學(xué)仿真軟件-FRED可以進(jìn)行側(cè)入光式的背光模塊仿真分析。 l8(9?!C
G*EF_N. G0
如下圖，并且可利用ARRAY的方法快速的布置重復(fù)式網(wǎng)點(diǎn) l"[.Q>d @su<_m6' zjA#8;h~w
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在FRED可以設(shè)定散射表面，而油墨本身就是一種散射表面，如下 M
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光線追跡： \nP79F0%2
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也可以加上BEF片的模擬 z-K};l9y vv)w@A:Vn)
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模擬結(jié)果 Ep;?%o
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