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摘要 RG- ,<G`
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X01 在傳統(tǒng)的Talbot光刻中，在光敏層中僅使用一個(gè)圖像，但是可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的兩個(gè)圖像。在此示例中，遵循I.-H. Lee等人的工作，通過(guò)傅立葉模態(tài)法（FMM，也稱為RCWA）在VirtualLab Fusion中對(duì)具有一層圓錐體的相位掩模進(jìn)行了建模。探測(cè)得到不同的Talbot像，柱狀圖位于主像面上，孔狀圖位于次像面上。 pFEU^]V3*
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 ^0 /!:*? 6Q`7>l.|? 建模任務(wù) Vje LPbk) ?)4c!3#
 X&,a=#C^ 結(jié)構(gòu)和材料參數(shù)來(lái)自I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015) dV"Kx
{;hR FQ^b 某一位置的Talbot圖樣 ,
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