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摘要 mrE>o! UeBSt. 在傳統(tǒng)的Talbot光刻中,在光敏層中僅使用一個圖像,但是可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的兩個圖像。在此示例中,遵循I.-H. Lee等人的工作,通過傅立葉模態(tài)法(FMM,也稱為RCWA)在VirtualLab Fusion中對具有一層圓錐體的相位掩模進行了建模。探測得到不同的Talbot像,柱狀圖位于主像面上,孔狀圖位于次像面上。 0\ j)!b 2V9"{F? @d3yqA
z9AX8k(B6 建模任務(wù) {|zQ
.sA u?g;fh6 #c<F,` gdi 結(jié)構(gòu)和材料參數(shù)來自I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015) >>-{AR0 y>UQm|o<W 某一位置的Talbot圖樣 %kBrxf yq[CA`zVN O'~^wu. Jn0L_@ 某一位置的Talbot圖樣 fk5pPm|MiL !qs~j=;y3 MGKSaP;x QA!'p1{# 不同位置的Talbot圖樣 ![%:X)? +>mU4Fwp 1G,
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