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摘要 6,Z.RT{5 $y{rM%6JU GW{e"b/x 9696EQ,I 干涉測(cè)量法是一項(xiàng)用于光學(xué)測(cè)量的重要技術(shù)。它被廣泛應(yīng)用于表面輪廓、缺陷、機(jī)械和熱變形的高精度測(cè)量。作為一個(gè)典型示例,在非序列場(chǎng)追跡技術(shù)的幫助下,于 VirtualLab Fusion中建立了具有相干激光源的馬赫-澤德干涉儀。該例證明了光學(xué)元件的傾斜和位移對(duì)干涉條紋圖的影響。 f(S9>c2 }IJE% 建模任務(wù) l;7T.2J'Z @qUgp*+{ 9t8NK{ 2Sgv 由于組件傾斜引起的干涉條紋 D*0[7:NSO kLE("I:7
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