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ASML未來四代EUV光刻機(jī)進(jìn)度披露:正向1nm邁進(jìn)

發(fā)布:cyqdesign 2021-03-18 15:56 閱讀:867
日前,ASML產(chǎn)品營銷總監(jiān)Mike Lercel向媒體分享了EUV(極紫外)光刻機(jī)的最新進(jìn)展。ASML現(xiàn)在主力出貨的EUV光刻機(jī)分別是NXE:3400B和3400C,它們的數(shù)值孔徑(NA)均為0.33,日期更近的3400C目前的可用性已經(jīng)達(dá)到90%左右。 -" DI,o  
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預(yù)計(jì)今年年底前,NXE:3600D將開始交付,30mJ/cm2下的晶圓通量是160片,比3400C提高了18%,機(jī)器匹配套準(zhǔn)精度也增加了,它預(yù)計(jì)會(huì)是未來臺(tái)積電、三星3nm制程的主要依托。 $ _ gMJ\{  
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在3600D之后,ASML規(guī)劃的三代光刻機(jī)分別是NEXT、EXE:5000和EXE:5200,其中從EXE:5000開始,數(shù)值孔徑提高到0.55,但要等待2022年晚些時(shí)候發(fā)貨了。 _r&#Snp  
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