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ASML未來四代EUV光刻機進(jìn)度披露:正向1nm邁進(jìn)
ASML未來四代EUV光刻機進(jìn)度披露:正向1nm邁進(jìn)
發(fā)布:
cyqdesign
2021-03-18 15:56
閱讀:
864
日前,
ASML
產(chǎn)品營銷總監(jiān)Mike Lercel向媒體分享了
EUV
(極紫外)
光刻機
的最新進(jìn)展。ASML現(xiàn)在主力出貨的EUV光刻機分別是NXE:3400B和3400C,它們的數(shù)值
孔徑
(NA)均為0.33,日期更近的3400C目前的可用性已經(jīng)達(dá)到90%左右。