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    [分享]分析高數(shù)值孔徑物鏡的聚焦特性 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2021-03-19
    摘要 9OE_?R0c!  
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    高數(shù)值孔徑的物鏡廣泛用于光刻、顯微等方面。 因此，在仿真聚焦時(shí)考慮光的矢量性質(zhì)是至關(guān)重要的。VirtualLab可以支持此類透鏡的光線和場(chǎng)追跡分析。通過場(chǎng)追跡分析，可以清楚地顯示出由于矢量效應(yīng)引起的非對(duì)稱焦點(diǎn)。相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器可以方便地研究聚焦區(qū)域的場(chǎng)，也可以深入研究矢量效應(yīng)。 T3=-UYx]  
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    建模任務(wù) H[>klzh6 !  
    K * xM[vO  
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    概述 l:>qR/|m  
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    •案例系統(tǒng)已預(yù)先設(shè)置了高數(shù)值孔徑物鏡。 'XC&BWJ  
    •接下來，我們演示如何按照VirtualLab中建議的工作流程在示例系統(tǒng)上執(zhí)行仿真。 6)tB{:h&~0  
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     l4R<`b\Jt  
    iKR8^sj7S  
    光線追跡仿真 oyi7YRvwd  
    NgDZ4&L  
    •首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”作為模擬引擎。 f(w#LuW<  
    •單擊go！ /6Jy'"+'0  
    •獲得了3D光線追跡結(jié)果。 eSQzjR*  
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    光線追跡仿真 j\jL[hG_  
    h^.tom g8  
    •然后，選擇“光線追跡”作為模擬引擎。 2[&-y[1  
    •單擊go！ ZFuJ2 :  
    •結(jié)果得到點(diǎn)圖（二維光線追跡結(jié)果）。 3pv1L~ ZI  
    YB3=ij!K  
     M@X#[w:  
    t{s*3k/  
    場(chǎng)追跡仿真 *^+xcG  
    ,Ve@=<  
    •切換到場(chǎng)追跡，然后選擇“第二代場(chǎng)追跡”作為模擬引擎。 0:+uw` %  
    •單擊go！ :;WDPRx  
    Y9L6W+=T  
    r4ttEJ-jG  
     Ahbu >LPk  
    場(chǎng)追跡仿真（相機(jī)探測(cè)器） L.:QI<n  
    5_C#_=E  
    •上圖僅顯示Ex和Ey場(chǎng)分量積分的強(qiáng)度。 sfPN\^k2  
    •下圖顯示Ex、Ey和Ez分量積分的強(qiáng)度：由于在高數(shù)值孔徑情況下Ez分量相對(duì)較大，因此可見明顯的不對(duì)稱性。 / lM~K:  
    :QL p`s  
     M*6@1.n  
    3X,{9+(F  
    場(chǎng)追跡仿真（電磁場(chǎng)探測(cè)器） [=F |^KL  
    •使用電磁場(chǎng)探測(cè)器可獲得所有電磁場(chǎng)分量。 "s<l Lgi  
    ~[y+B0I3  
    `srZ#F5  
     |B$\3,  
    場(chǎng)追跡仿真（電磁場(chǎng)探測(cè)器） DMN H?6  
     }/r%~cZ  
    •使用電磁場(chǎng)探測(cè)器可獲得所有電磁場(chǎng)分量。 'R'a/ZR`B7  
    gbf=H8]  
     =?Md&%j  
    3(*s|V"  
    文件信息 K/+C6Y?  
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