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UID:317649
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- 注冊時間2020-06-19
- 最后登錄2024-11-18
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由于電磁場的矢量性質(zhì),偏振效應通常在現(xiàn)代光學研究和工程中起重要作用。線性偏振鏡(例如線柵偏振鏡)可能是用于操縱偏振態(tài)的最常用的光學元件。 盡管在大多數(shù)情況下,偏振鏡設計用于傍軸情況,但它們也用于非傍軸設置,例如, 在高NA透鏡后面的聚焦區(qū)域或測量高傾斜偏振鏡后面的Stokes參數(shù)。 在VirtualLab Fusion中,我們?yōu)榉前S情況下的偏振鏡提供了一個模型。 此外,VirtualLab獲得的仿真結果與參考文獻具有良好的一致性。 p[4 +`8 *~8F.cx 聚焦區(qū)域處的偏振鏡 t jM9EP =z}PR1X! 為了在非傍軸設置中模擬偏振鏡,在VirtualLab中實現(xiàn)了理想化模型,并且呈現(xiàn)了偏振鏡在聚焦區(qū)域中的效果。 a?gF;AYk e;6:U85LS 傾斜偏振鏡背后的Stokes參數(shù) bd/A0i?C kF1$ 使用理想化的非傍軸偏振鏡模型,研究了偏振鏡與來自不同角度的入射波的相互作用,并且使用Stokes參數(shù)來表征結果。 }+jB5z'w OP!R>| J`g5Qn@S QQ:2987619807 cyNE}
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