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    [求助]反射式紋影儀系統(tǒng)的zemax模型構(gòu)建 [復(fù)制鏈接]

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    離線oy87188
     
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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2021-05-19
    回復(fù)本帖可獲得3枚光幣獎(jiǎng)勵(lì)！
    每人最多可獲獎(jiǎng)1次，獎(jiǎng)池剩余3枚光幣 (中獎(jiǎng)幾率70%)
    請(qǐng)教各位大佬，本人是zemax小白，最近在接觸反射式"Z"型紋影測(cè)量方法，不知道基于"Z"型反射式紋影測(cè)量的zemax模型是否有比較常規(guī)的模型可以提供？不知道哪位大佬能夠提供這方面的知識(shí)呢？ |e&Kg~~C  
    hgGcUpJy?  
     
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    在線arnold128
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    只看該作者 1樓 發(fā)表于: 2021-05-20
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    沒(méi)有吧，序列模式由于不是同軸系統(tǒng)，需要斷點(diǎn)傾斜這類來(lái)處理，非序列的相對(duì)于序列模式可以省去斷點(diǎn)設(shè)置，斷點(diǎn)對(duì)于初學(xué)者不太友好，需要理解zemax的坐標(biāo)設(shè)定和光線的參考變化 ] ?(=rm9u  
    離線guxiaopiao
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    只看該作者 2樓 發(fā)表于: 2021-05-20
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    請(qǐng)問(wèn)，不均勻透明介質(zhì)，即紋影的研究對(duì)象如何在Zemax中設(shè)置呢？