Essential
Macleod是一套完整的
光學(xué)薄膜分析與設(shè)計(jì)的軟件包,它能在任一32位、64位微軟窗口環(huán)境操作系統(tǒng)下運(yùn)行(除了Windows RT), 并且具有真正的多文檔操作界面;它能滿(mǎn)足光學(xué)鍍膜設(shè)計(jì)中的各種要求;既可以從頭開(kāi)始設(shè)計(jì),也可以
優(yōu)化已有的設(shè)計(jì);可以模擬設(shè)計(jì)生產(chǎn)中的誤差,也可以導(dǎo)出薄膜的光學(xué)常數(shù),是當(dāng)今市場(chǎng)上最完善的薄膜設(shè)計(jì)及分析軟件。
'Y`.0T[& >(>Fx\z} 模塊:Core模塊+5個(gè)附加模塊
dfkmIO%9X f{_K%0* Core模塊
O}VI8OB(& r[2N;U Macleod核心模塊是軟件的最低配置,包含設(shè)計(jì)編輯器,數(shù)據(jù)、目標(biāo)編輯器,輸入/輸出,材料管理,性能計(jì)算,優(yōu)化和綜合,和其它軟件或硬件的數(shù)據(jù)交換,導(dǎo)納軌跡,電場(chǎng),輔助設(shè)計(jì)等,是整個(gè)軟件包的基本構(gòu)架。
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f?xc-lX5R Core模塊功能
JUBihw4 aBL+i- 效能計(jì)算
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,b ;Kb]v\C: Essential Macleod 提供了整組完整的效能計(jì)算。除了一般反射和透射計(jì)算外,也包括沉積密度、吸收,橢圓
參數(shù),超快參數(shù) (群組延遲、群組延遲色散、三階色散)和多光色散,也可以進(jìn)行色彩計(jì)算。公差的計(jì)算是分辨設(shè)計(jì)對(duì)微小厚度變化的靈敏度。
TM_ MJp SVvR]T&_ 顏色計(jì)算
zD8q(]: A I^'U_"vB 顏色計(jì)算包括色度坐標(biāo)、顯色指數(shù)、色純度、主導(dǎo)波長(zhǎng)、相對(duì)色溫。圖形包括色度坐標(biāo)圖、色調(diào)、用戶(hù)自定義圖。包括CIE 1931 和 1964 配色函數(shù)在內(nèi)的許多標(biāo)準(zhǔn)
光源選擇是預(yù)先定義好的,而用戶(hù)可以定制你所需要的參數(shù)的其它參數(shù)?梢愿鶕(jù)導(dǎo)入的透射及反射數(shù)據(jù)計(jì)算作為波長(zhǎng)函數(shù)的顏色參數(shù),也可以作為目標(biāo)進(jìn)行優(yōu)化。
^"Y5V5 -t28"jyj 設(shè)計(jì)和分析工具
=l&A9 >\ 5tyr$P! N 包括導(dǎo)納圖,電場(chǎng)分布,等效折射率,吸收分布,應(yīng)力,光的散射、特性包絡(luò)、消偏振邊帶濾波器設(shè)計(jì)和誘導(dǎo)透過(guò)率。
K]q9wR'q S(;3gQ77 提取工具
5~WMb6/ ,XmTKOc n & k 提取工具提供了由量測(cè)測(cè)試薄膜的反射、透射頻譜數(shù)據(jù)以決定薄膜或基底n 與k 的方法。
"+^d.13+] G(piq4D 反演工程
;1`NsYI2 nx<q]Juv\ 主要采用Simplex 局部?jī)?yōu)化方法,根據(jù)已鍍膜的設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)和
光譜測(cè)試數(shù)據(jù)(至少一種),來(lái)確定其真實(shí)膜系結(jié)構(gòu)及其與設(shè)計(jì)的差別。
T?=[6 CfFNk "0{ 公差
|Tz/9t u#tLY/KA Essential Macleod 的公差能力允許你探查設(shè)計(jì)相對(duì)于制造誤差的靈敏度,可以比較不同的設(shè)計(jì)以挑選出最優(yōu)者。
'IrwlS XO |U4#ya 細(xì)化與合成
kzs}U'U ;D5B$ @W> Essential Macleod提供了6個(gè)優(yōu)化和2個(gè)合成工具,膜層可以鎖定或關(guān)聯(lián)(膜層關(guān)聯(lián)是更先進(jìn)的分組形式可以把不連續(xù)的膜層關(guān)聯(lián)在一起優(yōu)化),堆積密度包含在細(xì)化工具下的簡(jiǎn)單下降法里面(可對(duì)折射率優(yōu)化)。優(yōu)化過(guò)程可以加入如選擇的膜層的總厚度等不同的限制條件。Optimac和needle Synthesis方法可以?xún)?yōu)化多層膜,可加入多種材料合成優(yōu)化。Context允許使用替代材料優(yōu)化。
UH8)r #]`ejr:2O 圖表
hM*T{|y ,"/<N*vh Essential Macleod包括標(biāo)準(zhǔn)圖片、動(dòng)態(tài)圖(參數(shù)的變化效應(yīng)可立即看到)、三維圖。
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HCVM: ; *G[3kk 導(dǎo)入與導(dǎo)出
kTQ`$V(>& ,nO:Pxn| 剪貼板支持與其它應(yīng)用程序的導(dǎo)入與導(dǎo)出數(shù)據(jù),還可以導(dǎo)出數(shù)據(jù)到
光學(xué)系統(tǒng)軟件中如FRED、VirtualLab、Zemax、Code V。
wzAp`Zs2Dm ]1] Runsheet模塊
E.Hw|y0_(| HaeF`gI^Ee 這個(gè)工具可設(shè)計(jì)鍍膜制程,包含機(jī)器配置編輯器以及跑單生成器。
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mea]m)P 機(jī)器配置編輯器
^=)? a;V }-{l(8- 機(jī)器配置中貯存了特定鍍膜機(jī)的詳細(xì)設(shè)置,監(jiān)控系統(tǒng),入射角,材料,監(jiān)控
芯片,加工因子(包含隨光源損耗變化的動(dòng)態(tài)加工因子)。
&Vi"m!Bf rn1FCJ<;H Runsheet
7`3he8@ze ;FYiXK% 使用者可使用跑單生成器對(duì)既定的機(jī)器配置,進(jìn)行鍍膜設(shè)計(jì)的監(jiān)控規(guī)劃。該工具除了可同時(shí)具備光學(xué)與晶體監(jiān)控功能外,還具備諸如動(dòng)態(tài)加工因子和系統(tǒng)帶寬等高級(jí)特性。
]2Aqqy o{\@7'G •對(duì)反射、背向反射和透射監(jiān)控計(jì)算光學(xué)信號(hào)
%^RlE@l9 •當(dāng)膜層沉積時(shí),動(dòng)態(tài)加工因子(Dynamic Tooling Factors)可以不同
1 sCF
-r •使用偏移和放大控制可以使信號(hào)數(shù)據(jù)縮小或放大到用戶(hù)自定義范圍
&libC>a[ •對(duì)每一膜層,監(jiān)控波長(zhǎng)、帶寬、監(jiān)控光譜、晶控或光控都可以用戶(hù)自定義
_:om(gL •在鍍膜的任何階段,監(jiān)控芯片可以更換
XQ:HH 8 •多種配套的格式輸出
5v8&C2Jy@ •提供圖片和表格的監(jiān)測(cè)數(shù)據(jù)可以輸出到用戶(hù)自定義報(bào)告格式
UC*<] k}-%NkQ
9O Simulator模塊
,2?"W8, Yg%V 對(duì)于公差問(wèn)題, Simulator 通過(guò)蒙特卡羅(Monte Carlo)法在實(shí)際模型控制過(guò)程的擴(kuò)展來(lái)進(jìn)行解決。通過(guò)一個(gè)由 Runsheet 創(chuàng)建的控制計(jì)劃, Simulator 可模擬薄膜淀積控制,引入隨機(jī)和系統(tǒng)效應(yīng),例如信號(hào)噪聲,加工因子的變動(dòng),封裝密度誤差等等,以及顯示這些參數(shù)對(duì)于鍍膜制程的最終模擬結(jié)果的效應(yīng)。
NXDV3MH= zx{\SU Monitorlink模塊
6m21Y8N =Feavyx Monitorlink提供將Runsheet連結(jié)到一個(gè)淀積控制器的額外軟件。一個(gè)獨(dú)立的程序與控制器直接連接,而且一個(gè) Runsheet 的擴(kuò)展也賦予其產(chǎn)出和編輯淀積程序的功能。
5}e-~- VStack 模塊
nLkC-+$tM C78d29 VStack 是一種計(jì)算與優(yōu)化的工具﹐它也能計(jì)算這些系統(tǒng)中斜射光的效應(yīng)。當(dāng)光束斜入射時(shí),初始為p- 偏振態(tài)的
光線最終會(huì)以p - 偏振態(tài)從系統(tǒng)出射。同理,原本是s - 偏振態(tài)光也會(huì)以p - 偏振態(tài)出射,我們稱(chēng)此為偏振泄漏 (polarization leakage) 現(xiàn)象。VStack 能計(jì)算泄漏的大小而且提供泄漏元件的 Delta 值。
LJZEM;;} *n?6x!A Function模塊
=_cWCl^5 "/hs@4{u9 函數(shù)擴(kuò)展功能無(wú)macleod計(jì)算中的限制,F(xiàn)unction有兩個(gè)主要工具:第一是簡(jiǎn)單的宏語(yǔ)言可在軟件表格中運(yùn)行,另一個(gè)是強(qiáng)大的Basic腳本語(yǔ)言。
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