-
UID：317649
-
- 注冊時間2020-06-19
- 最后登錄2025-02-21
- 在線時間1734小時
-
-
訪問TA的空間加好友用道具
|
請問FRED這套軟件針對一般光源側(cè)入光式的背光模塊是否可以詳細仿真光源透過LGP上面油墨印刷后的光源軌跡(整個面的光均勻度)？LGP上會印刷光學級油墨點(Pattern)，我們會控制Pattern直徑的大小，來控制整個背光模塊的均勻性，是否有側(cè)入光式的范例(LGP Pattern 光學仿真軌跡)？ &a!MT^anA~
e]*@|e4 b
Ans:可以，光學仿真軟件-FRED可以進行側(cè)入光式的背光模塊仿真分析。 ~v6]6+
w&x$RP
如下圖，并且可利用ARRAY的方法快速的布置重復式網(wǎng)點 jK\AVjn vw6DHN)k Dg}$;PK
Y2aN<>f
在FRED可以設定散射表面，而油墨本身就是一種散射表面，如下 [w{x+ 6uX'
w Y=k $
yrG=2{I
ZVz`g]
光線追跡： ;T :]?5W!
|_m N:(3
Kh7C7[&
也可以加上BEF片的模擬 %[x
PyqX zALtG<_t
Slv91c&md,
模擬結(jié)果 UsgrI>|l
 oVQbc \P3 bD`h/jYv
QQ：2987619807 #|/ +znJm
|
