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請問FRED這套軟件針對一般光源側(cè)入光式的背光模塊是否可以詳細仿真光源透過LGP上面油墨印刷后的光源軌跡(整個面的光均勻度)？LGP上會印刷光學(xué)級油墨點(Pattern)，我們會控制Pattern直徑的大小，來控制整個背光模塊的均勻性，是否有側(cè)入光式的范例(LGP Pattern 光學(xué)仿真軌跡)？ 0P`wh=")
zb9^ii$g
Ans:可以，光學(xué)仿真軟件-FRED可以進行側(cè)入光式的背光模塊仿真分析。 C("P CD
OJE <2:K
如下圖，并且可利用ARRAY的方法快速的布置重復(fù)式網(wǎng)點 Wz$%o'OnC d7N;F a3yL XfA3Ez,}
'$Jt }O
在FRED可以設(shè)定散射表面，而油墨本身就是一種散射表面，如下 Z
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