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[分享]光學(xué)仿真軟件FRED應(yīng)用于側(cè)入光式的背光模塊 [復(fù)制鏈接]

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只看樓主倒序閱讀樓主發(fā)表于: 2021-09-24

請問FRED這套軟件針對一般光源側(cè)入光式的背光模塊是否可以詳細仿真光源透過LGP上面油墨印刷后的光源軌跡(整個面的光均勻度)？LGP上會印刷光學(xué)級油墨點(Pattern)，我們會控制Pattern直徑的大小，來控制整個背光模塊的均勻性，是否有側(cè)入光式的范例(LGP Pattern 光學(xué)仿真軌跡)？

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