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    [技術]空間光調制器像素處光衍射的仿真 [復制鏈接]

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    空間光調制器像素處光衍射的仿真

    時間:2016-11-24 20:12來源:未知作者: infotek點擊:次打印

    空間光調制器(SLM.0002 v1.1)

    應用示例簡述

    1. 系統(tǒng)細節(jié)

    光源

    — 高斯光束

     組件

    — 反射型空間光調制器組件及后續(xù)的2f系統(tǒng)

     探測器

    — 視覺感知的仿真

    — 電磁場分布

     建模/設計

    — 場追跡:

     一個SLM像素陣列處光傳播的仿真,仿真中包括了SLM像素間無功能間隔引起的衍射效應。

    2. 系統(tǒng)說明

    3. 模擬 & 設計結果

    4. 總結

    考慮SLM像素間隔來研究空間光調制器的性能。

    第1步

    將像素間隔引入到一個先前設計的用于光束整形的SLM透射函數。

    第2步

    分析不同區(qū)域填充因子的對性能的影響。

    產生的衍射效應對SLM的光學功能以及效率具有重大影響。

    應用示例詳細內容

    系統(tǒng)參數

    1. 該應用實例的內容

    2. 設計&仿真任務

    由于制造和技術的原因,像素之間存在非功能間隔。這種典型的間隔會產生衍射效應,從而影響SLM的光學性能,并在接下來的工作中對其進行研究。

    3. 參數:輸入近乎平行的激光

    4. 參數:SLM像素陣列

    5. 參數:SLM像素陣列

    應用示例詳細內容

    仿真&結果

    1. VirtualLab能夠模擬具有間隔的SLM

     由于可以嵌入組件,VirtualLab可以輕松的實現(xiàn)反射系統(tǒng)(如反射鏡,2f系統(tǒng)等)。

     內置的SLM模式可以實現(xiàn)從簡單透射函數到包含像素和間隔的陣列的自動轉換。

    2. VirtualLab的SLM模塊

     為設置像素陣列,必須輸入像素陣列尺寸和區(qū)域填充因子。

     必須設置所設計的SLM透射函數。因此,需要輸入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路徑。

    3. SLM的光學功能

     在第一步,我們可以研究SLM后的電磁場。

     為此,將區(qū)域填充因子設置為60%。

     首先,獲得場(Ex方向)的振幅,分別顯示了SLM像素及其間隔的影響。

    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd

     此處,場(Ex方向)的(Wrapped)位相如下圖所示,其中所有的間隔的相位值都為一個常數值。

    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd

    4. 對比:光柵的光學功能

     上述的像素效應可以用相似光學功能的2D周期結構的進行比較。

     所示函數(Ex的振幅)相當于一個SLM,其像素提供一個常數位相函數。

     通過這種光柵,能夠將光衍射到幾個衍射級次,衍射級次分布在x-和y-方向(由于二維光柵結構)。

     級次越高振幅衰減越快,所以只有0級,1級以及2級貢獻了主要的光強部分。

     這意味著,對于SLM,我們所期望的光分布具有有較高的級次,其光強由區(qū)域填充因子決定。

    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd

    5. 有間隔SLM的光學功能

    現(xiàn)在,基于像素陣列的區(qū)域填充因子,我們可以在傅里葉平面研究SLM的光學功能。

    所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd

    下圖顯示了(Ex方向)光強分布,圖中具有相同的振幅比率。

    6. 減少計算工作量

    采樣要求:

     至少1個點的間隔(每邊)。

     如在有效區(qū)域,用戶指定60%區(qū)域填充因子,模塊在激活區(qū)域計算5×5點的等間距采樣。

    采樣要求:

     同樣,至少1個點的間隔。

     假設指定90%區(qū)域填充因子,模塊計算25×25點的等間距采樣。

     隨填充因子的增大,采樣迅速增加。

     為優(yōu)化大填充因子條件下的計算工作量,減小相關陣列尺寸是非常有效的方法。

     如果被照明區(qū)域小于陣列尺寸(標記區(qū)域包含光強的90%),這種簡化是非常適用的。

     如果只考慮標記的范圍,僅計算SLM的320×320個像素即可(SLM模塊自動刪除了透射函數邊界)。

     通過優(yōu)化,計算工作量減少了4.7倍。

    減小SLM陣列尺寸后計算所得的振幅分布幾乎和全陣列一樣。

    7. 指定區(qū)域填充因子的仿真

     由于間隔非常狹窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子為98%,需要更多的采樣點進行計算。

     全陣列尺寸798×600像素將需要79992×60600個采樣點,需要極高的計算量。

     因此,可適當減小陣列尺寸到320×320像素,采樣點數目為32320×32320。

     在優(yōu)化的幫助下,可對指定區(qū)域填充因子進行研究(該仿真仍需約256GB的內存)。

    8. 總結

    考慮SLM像素間隔來研究空間光調制器的性能。

    第1步

    將像素間隔引入到一個先前設計的用于光束整形的SLM透射函數。

    第2步

    分析不同區(qū)域填充因子的對性能的影響。

    擴展閱讀

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     開始視頻

    -    光路圖介紹

     該應用示例相關文件:

    -     SLM.0001:用于生成高帽光束的SLM位相調制器設計

    -     SLM.0003: 一個基于SLM光束整形系統(tǒng)的中透鏡像差的研究

     
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