空間光調(diào)制器(SLM.0001 v1.1) =x^I 5Pn  
應用示例簡述 u>(Q& 25  
9 /zz@  
1. 系統(tǒng)說明 l y%**iN  
 光源 f0[xMn0Tu  
— 高斯光束 .(Pe1pe  
 組件 Vm.u3KE  
— 反射型空間光調(diào)制器組件及后續(xù)的2f系統(tǒng) W4#:_R,&,  
 探測器 X
,q=JS  
— 視覺感知的仿真 z%AIv%  
— 電磁場分布 6?a(@<k_  
— 效率、SNR，一致性偏差，雜散光評估 b%_QL3m6  
 建模/設計 H?~u%b@   
— 基于迭代傅里葉變換算法（IFTA）設計位相傳遞函數(shù)，將高斯光束整形為高帽光束 '|q:h  
— 場追跡：光在空間光調(diào)制器像素陣列的衍射。 qB=pp!zQ  
E8j9@BHU[r  
2. 系統(tǒng)圖示
wM yPR_  
M"FAUqz`
 
3. 建模與設計結果 KXM-GIRUG  
FQ87[| S  
/9yiMmr5W  
4. 總結 UMX+h])#N  
q#778  
VirtualLab內(nèi)置的工具，如： cp2fDn  
 迭代傅里葉變換算法(IFTA) zk/!#5JtK  
 一個輔助會話編輯窗口 m3XH3FgKz  
 經(jīng)典場追跡仿真引擎，提供多樣化選項以最合適的方法來處理衍射效應。 )N6R#  
mvL'l)  
我們可以： g SwG=e\  
0Fw\iy1o  
1. 為反射空間光調(diào)制器(SLM)生成一個優(yōu)化后的位相調(diào)制分布設計 N Hh  
2. 在最終系統(tǒng)的設置中對仿真結果進行分析。 U-? ^B*<  
XVLuhwi  
應用示例詳細內(nèi)容 _F*w ,b$8  
系統(tǒng)參數(shù) ;`+RSr^8$  
XH2SEeh  
1. 內(nèi)容概覽 @uE=)mP@  
 首先在系統(tǒng)詳述中給出了仿真參數(shù)、常規(guī)系統(tǒng)以及評估結果。 nn   
 接下來通過一步一步的描述來幫助你了解如何設置此系統(tǒng)。 2(rZ@Wl  
 最后的部分給你必要的信息，即到處必要的設計核分析數(shù)據(jù)以用于實際的SLM模塊。 %zD-gw>  
6f>l~$  
2. 應用實例的內(nèi)容 hHg gH4T  
2at?9{b  
LAKZAi%O0  
3. 設計&仿真任務 :^s7#4%6  
'; dW'Uwc  
(p?3#|^  
 對于2F系統(tǒng)和一個給定的SLM，我們設計了所需的位相用于生成一個矩形高帽光束(超級高斯)光分布。 < t (Pw  
 SLM偏折光線以在遠場生成高帽形狀光束，傅里葉透鏡將光束聚焦，并決定了最終的工作距離。 A{J