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    [技術(shù)]光學(xué)相干斷層掃描的上皮散射自發(fā)熒光強(qiáng)度校正——一個(gè)模型的研究 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2021-11-12
    本文以實(shí)驗(yàn)結(jié)合光學(xué)軟件FRED來(lái)驗(yàn)證熒光介質(zhì)上覆蓋散射層的影響,結(jié)合AF-OCT系統(tǒng)能夠減少由于上皮組織增厚引起的假陽(yáng)性,增強(qiáng)AF疾病檢測(cè)的功效。 1nB@zBQu -  
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    摘要 [TCRB`nTQF  
    EUZq$@uWL  
    在本文中,我們通過(guò)模擬組織的自發(fā)熒光(AF)特性進(jìn)行了模型的研究。我們組合了光學(xué)相干斷層掃描(OCT)和AF成像系統(tǒng),依據(jù)散射層的厚度和濃度來(lái)測(cè)量AF信號(hào)的強(qiáng)度。使用由生成的OCT圖像計(jì)算得到的厚度和散射濃度,結(jié)合AF-OCT系統(tǒng)能夠估計(jì)由上皮組織散射引起的AF損耗。我們定義了一個(gè)校正因子來(lái)計(jì)算上皮組織中的散射損耗,并且計(jì)算了一個(gè)校正散射AF信號(hào)。我們認(rèn)為校正散射AF將會(huì)減少在早期呼吸道病變檢測(cè)中的診斷誤檢率,誤檢是由混合因子產(chǎn)生,如增加的皮層厚度和炎癥。 d_T<5Hin  
    ^s*\Qw{Ii  
    關(guān)鍵詞:光學(xué)相干斷層掃描;自發(fā)熒光;光散射;模型;光線光學(xué);OCT A-line數(shù)據(jù) 1Z:R,\+L  
    m!Af LSlwm  
    1. 簡(jiǎn)介