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    [技術(shù)]光柵結(jié)構(gòu)中場(chǎng)分布的嚴(yán)格分析 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2021-11-25
    該案例主要說明了周期性結(jié)構(gòu)內(nèi)電磁場(chǎng)分布的嚴(yán)格計(jì)算。出于此目的,研究了兩種不同的系統(tǒng):具有狹縫的矩形光柵和具有三角形狀的介質(zhì)光柵(等腰三角形)。 H/k W :k  
    m0Syxb  
    1. 建模任務(wù)1:金屬光柵 +q/h:q.TV  
    Fnpn_O XlH  
    z#VpS=  
     在Ey (TE)偏振照明下的光柵內(nèi)部場(chǎng)分布的嚴(yán)格仿真。 p'uz2/g  
     對(duì)于這個(gè)仿真,采用傅里葉模態(tài)法。 ~(j'a!#Vvk  
    o# xg:m_py  
    2. 建模任務(wù)2:介質(zhì)光柵 Yp]G)}'R  
    el?V2v[  
     在Ex (TM)和Ey (TE)偏振光照明下的光柵內(nèi)部場(chǎng)分布的嚴(yán)格仿真。 5j,qAay9  
     對(duì)于這個(gè)仿真,采用傅里葉模態(tài)法。 &fW=5'  
    8-a6Q|   
    3. 建模任務(wù)
    &H&P)Px*_  
    K$cIVsfr  
    " ^baiN@ac  
    VirtualLab的光柵工具箱提供了場(chǎng)內(nèi)部分量分析器,用戶可以對(duì)光柵結(jié)構(gòu)中的電磁場(chǎng)分布進(jìn)行嚴(yán)格計(jì)算。 mRH]'d lD7  
     通過該分析器,可以對(duì)任意形狀的光柵進(jìn)行研究。 .w_`d'}  
     場(chǎng)分布計(jì)算能夠檢測(cè)結(jié)構(gòu)內(nèi)部的熱點(diǎn) 7J;~ &x  
    ^<\} Y  
    4. TE和TM照明線性光柵
    J md ?  
    .crM!{<Y  
    5. 鉻狹縫的分析 4E-A@FR  
    =>0M3 Qh{  
    I'9s=~VfY,  
     通過計(jì)算場(chǎng)分量,可描述多種場(chǎng)量,如振幅、位相、振幅平方。 RLz`aBT  
     左圖顯示的是Ey方向的振幅平方,由于TE偏振光照明,這是唯一一個(gè)不為零的場(chǎng)量。 KWJgW{{v  
     對(duì)于金屬結(jié)構(gòu),由于集膚效應(yīng),場(chǎng)合能量主要位于狹縫(空氣)內(nèi)。 iM|"H..  
     紅線說明了結(jié)構(gòu)的形狀(手動(dòng)添加) U|7Qw|I7  
    2nU NI U  
    6. 三角光柵的分析
    @xm~T|[7  
     左圖為三角介質(zhì)光柵,描述的是TE光照明的Ey分量的振幅平方。 mBZ Dl4 '  
    Rca Os  
    \678Nx  
     如果是介質(zhì)光柵結(jié)構(gòu),場(chǎng)合能量主要集中在光柵脊內(nèi)。 @k+G Cf  
     由于三角高度輪廓是在x-z平面內(nèi)變化,電場(chǎng)的y分量幾乎沒有影響。 %?oU{KzQ@;  
     紅線說明了結(jié)構(gòu)的形狀(手動(dòng)添加)。
    L-C/Luws  
     左圖顯示的TM偏振光照明下,Ex分量的振幅平方。 4A/,X>W61  
    /QXs-T}d  
     與TE偏振光照明對(duì)比,由于三角光柵形狀,場(chǎng)和能量分布受到強(qiáng)烈的影響。 紅線說明了結(jié)構(gòu)的形狀(手動(dòng)添加)。 ?4>y2!OC9  
    [k~+(.2I  
    7. 總結(jié) .x!7  
    )fMX!#KP  
     VirtualLab的光柵工具箱能夠?qū)θ我庑螤罟鈻沤Y(jié)構(gòu)進(jìn)行嚴(yán)格分析。 r\n h.}s  
     內(nèi)部場(chǎng)分量分析器允許計(jì)算所研究光柵結(jié)構(gòu)內(nèi)部的所有電磁場(chǎng)分量。 @`;Y/',  
     對(duì)于該類型的計(jì)算,VirtualLab采用全矢量傅里葉模態(tài)法。 C6'*/wq  
     光柵內(nèi)部場(chǎng)分布的研究能夠進(jìn)行熱點(diǎn)識(shí)別(高能密度),如果采用高能光源,這些熱點(diǎn)可能損壞元件。
     
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