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    [技術(shù)]光源的配置 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2021-12-28
    1. 描述 n>>Qn&ym  
    *Hz^K0:8(  
     通過該案例,介紹如何配置光源模擬在一個(gè)平面上的不同輻射。 )wvHGecp*  
     在一般的VirtualLab中,區(qū)分了相干光源模型和部分相干光源模型。 v\tEVhm  
     橫向和光譜輻射特性可以通過以下方式進(jìn)行定義: S! v(+|  
    — 預(yù)設(shè)公式 ,Wbwg  
    — 測量數(shù)據(jù) T .FI'wy  
    — 用戶自定義的公式 ar9]"s+'  
     光源沒有輸入且只有一個(gè)輸出通道。 6!'3oN{  
     VirtualLab中,除了激光諧振器工具箱外,光源內(nèi)部的處理不做仿真。 9h4({EE2t  
    #Lv2Zoi>G  
    2. 光路圖中的光源 h:Gu`+D>W  
    ~\LCvcY"X  
    j>-gO,v, y  
    anMF-x4/*q  
    3. 光源-基本參數(shù) a`[uNgDO  
    %w7u]-tR  
    w-wV3Q6X  
    uN([*'0Cg  
    /='. 4 v  
     通過基本參數(shù)表可以配置光源的所有共性參數(shù)。 VXIP0p@  
     可以輸入一個(gè)距離光源平面的橫向偏移和距離。 CHrFM@CM  
     用戶可以直接定義光源后的介質(zhì)。 ?=m?jNa;nC  
     支持以下附加配置: g L_Y,A~Q{  
    — 場尺寸 8>,jpAN}r  
    — 場形狀(矩形,橢圓) (bsXo q  
    — 邊緣寬度(切趾)
     ks$JP6  
    ho##Z*O  
    4. 光源-場尺寸和形狀 +gtrt^:]l  
    ),G=