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為了控制用于 AR/MR 應用的光導設備的均勻性和效率，有必要在某些區(qū)域，例如 在擴展和輸出耦合光柵區(qū)域，引入變化的光柵參數，例如填充因子或光柵高度值。 gF&1e5`i
為此，VirtualLab Fusion 能夠在一個區(qū)域內引入平滑變化的光柵參數，其中可以以非常不同的方式配置所需的變化。 這還包括一個工具，用于研究針對特定入射條件和光柵參數提供的衍射效率。 這個例子解釋了如何應用這些工具。 BRzrtK
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2. 建模任務的說明 O9bIo]B
@,$>H 7o 在光導上引入連續(xù)調制的光柵參數（例如，填充因子）。 opd^|x x0
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 Mp}U>+8 s$A |>TOY 3. 帶有附加引導的常規(guī)工作流程 [:Sl^ Z&6M :M3Fq@w= 起點是一個現有的、可執(zhí)行的光導系統(tǒng)，它具有基本的幾何配置（所需的距離和定位的光柵區(qū)域）和光柵規(guī)格（方向、周期、階數）。 (m13
ong n}EH{k9#
T v!zqx#E 需要參數調制的區(qū)域必須使用真實的光柵結構進行配置。 >o.4sN@ .^eajb`:
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G 足跡和光柵分析工具用于指定光柵參數變化的所需范圍，在光柵相互作用的指定條件下嚴格計算相應的瑞利系數，并生成可以定義實際參數變化的光學設置 . `#R[x7bA1 A|7%j0T
N^v"n*M0| 注意：光柵調制是為單個光柵區(qū)域定義的。 L\a G.\
eot%T h?[ 4. 打開足跡和光柵分析工具并設置光學裝置 =XVw{\#9 b
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 3v\}4)A[ Ko: <@h 5. 足跡和光柵分析工具 y2KR^/LN|Y
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 Pd)mLs Jg A{MMY{K3 6. 光柵參數和相關范圍的選擇 ZwM(H[iqL
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• 可以同時改變一個或兩個光柵參數。 n&1q *
• 參數空間的采樣可以相對粗略，因為隨后將在計算點之間應用插值技術。 }Y:V&4DW
• 該表列出了光柵的所有可用參數。 對于在一個區(qū)域內引入調制光柵參數，不允許使用改變光路的參數（如周期等）。 7v't# =
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 h/k00hD60 sFt"2TVr3 7. 查找表的計算 W[/Txc0$ 3N257]
在配置所需的光柵參數變化后，可以通過單擊計算查找表來計算生成的光柵特性并將其存儲在查找表中。 lha)4d
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