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    [技術(shù)]JCMSuite應(yīng)用—衰減相移掩模 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2022-04-02
    在本示例中，模擬了衰減相移掩模。 該掩模將線(xiàn)/空間圖案成像到光刻膠中。 掩模的單元格如下圖所示： Sd},_Kh  
    'p%= <0vrr  
     s%~L4Wmcq  
    *E:x E/M!2  
    掩模的基板被具有兩個(gè)開(kāi)口的吸收材料所覆蓋。在其中一個(gè)開(kāi)口的下方，位于相移區(qū)域。 F4Zn5&.)  
     xXX/]x>  
    由于這個(gè)例子是所謂的一維掩模(線(xiàn)/空間模式)，在xy平面中有一個(gè)2D仿真域。在源文件中設(shè)置3DTo2D = yes標(biāo)簽，以執(zhí)行用戶(hù)自定義傳入方向的自動(dòng)轉(zhuǎn)換。啟用此標(biāo)記后，就可以描述傳入?yún)^(qū)域，就好像光軸與Z軸重合一樣。這允許統(tǒng)一設(shè)置2D和3D的掩模模擬項(xiàng)目。由于光線(xiàn)從基板下方進(jìn)入，光線(xiàn)的傳輸方向?yàn)?Z方向。 LVnHt}  
     s]U4B<q  
    相位分布如下圖所示： KOjluP  
    6*IpAIh  
     KP3n^ $~  
    E\0X`QeY  
    相移區(qū)域的影響清晰可見(jiàn)，導(dǎo)致開(kāi)口上方光束的180度相位差。同時(shí)光場(chǎng)的S和P分量也顯示出相位差： OifvUTl9b  
    Y\xUT>(J7  
     AUfS-  
     
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