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在本示例中，模擬了衰減相移掩模。 該掩模將線/空間圖案成像到光刻膠中。 掩模的單元格如下圖所示： rn/ ~W[
mM:%-I\$
 GSW%~9WBa b0Dco 0U( 掩模的基板被具有兩個開口的吸收材料所覆蓋。在其中一個開口的下方，位于相移區(qū)域。 M.+h3<%^
G.`},c;A- 由于這個例子是所謂的一維掩模(線/空間模式)，在xy平面中有一個2D仿真域。在源文件中設置3DTo2D = yes標簽，以執(zhí)行用戶自定義傳入方向的自動轉換。啟用此標記后，就可以描述傳入?yún)^(qū)域，就好像光軸與Z軸重合一樣。這允許統(tǒng)一設置2D和3D的掩模模擬項目。由于光線從基板下方進入，光線的傳輸方向為+Z方向。 -Aojk8tc
hZlHY9[t? 相位分布如下圖所示： LI].*n/v
XJ5@/BW
 )ZI#F] @dx 8
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