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在傳統(tǒng)的Talbot光刻中,在光敏層中僅使用一個(gè)圖像,但是可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的兩個(gè)圖像。在此示例中,遵循I.-H. Lee等人的工作,通過(guò)傅立葉模態(tài)法(FMM,也稱為RCWA)在VirtualLab Fusion中對(duì)具有一層圓錐體的相位掩模進(jìn)行了建模。探測(cè)得到不同的Talbot像,柱狀圖位于主像面上,孔狀圖位于次像面上。 [eV!ho*r _aOisN{
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