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作為最著名的衍射效應(yīng)之一,泰伯(Talbot)效應(yīng)可以用于光刻技術(shù)中以制造周期性納米結(jié)構(gòu)。繼I.-H. Lee等人,我們在六邊形網(wǎng)格上構(gòu)造了一個圓錐形光柵掩膜版,并以深度方式模擬了Talbot圖像的生成。 特別是,由于光刻過程中使用的紫外光是非偏振的,因此我們在示例中演示了如何為VirtualLab Fusion中的光柵模擬建模非偏振光。 i22R3&C
;$86.2S>B 圓錐形相位掩模的Talbot圖像 k|w6&k3 <Wl!
Qog' 在VirtualLab Fusion中對帶有圓錐體的相位掩模版進行了建模。檢測到不同的Talbot圖像,以使柱形圖案位于主像平面中,而孔圖案出現(xiàn)在次像平面中。 :r|dXW
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