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摘要 EY
c)v6[ E}#&2n8Y 干涉測(cè)量法是光學(xué)計(jì)量學(xué)的重要技術(shù)。 它被廣泛用于例如,表面輪廓、缺陷、高精度的機(jī)械和熱變形。 作為一個(gè)典型示例,在VirtualLab Fusion中借助非序列場(chǎng)追跡,構(gòu)建了具有相干激光光源的Mach Zehnder干涉儀。 證明了光學(xué)元件的傾斜和移位如何影響干涉條紋圖案。 \NKw,`/ YM. HV]u9nrt# dYlVJ_0Zr 建模任務(wù) ,E@}=x9p 9/I
xh? 2r]o>X |0X~D}r|J 元件傾斜引起的干涉條紋 WD*z..` S0LaQ<9. vTWm_ed+^ r029E- 元件移動(dòng)引起的干涉條紋 ()n2 KT fhC|
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