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UID:317649
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- 注冊時間2020-06-19
- 最后登錄2024-11-15
- 在線時間1524小時
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高NA物鏡廣泛用于光刻,顯微等技術(shù)。因此,聚焦仿真中考慮光的矢量性質(zhì)至關(guān)重要。VirtualLab可以非常便捷地對此類鏡頭進(jìn)行光線追跡和場追跡分析。通過場追跡,可以清楚地觀察由于矢量效應(yīng)引起的聚焦光斑失對稱現(xiàn)象。利用相機(jī)探測器和電磁場探測器能夠?qū)劢箙^(qū)域進(jìn)行靈活全面的研究,進(jìn)而加深對矢量效應(yīng)的理解。 L:k@BCQM ^-csi 5~ *'>y >h/)r6 2. 建模任務(wù) &\WkJ}&PnA M;S-ESQ :3E8`q~c1 0IT20.~ 3. 概述 dZ;~b(CA b6?Xo/lJ. {3F}Slb 示例系統(tǒng)包含了高數(shù)值孔徑物鏡 $Nt]${0 下一步,我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執(zhí)行示例系統(tǒng)的仿真。 SzgY2+Qq G}9bCr, .H[Lo> )P(d66yq'u 4. 光線追跡仿真 nCSd:1DY pO
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