@UwDsx&2(t 在傳統(tǒng)的 Talbot 光刻中，在光敏層中僅使用一個(gè)
圖像。 但是，可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的兩個(gè)圖像。 在本案例中，按照 I.-H. Lee 等人在
VirtualLab Fusion 中使用傅里葉模態(tài)方法 (FMM，也稱為 RCWA) 對(duì)具有一層錐體的相位掩模進(jìn)行建模。可以檢測(cè)到不同的 Talbot 圖像，在主像平面中會(huì)再現(xiàn)柱狀圖案，而在次要像平面中再現(xiàn)孔圖案。
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