-
UID：317649
-
- 注冊時間2020-06-19
- 最后登錄2024-11-14
- 在線時間1514小時
-
-
訪問TA的空間加好友用道具
|
.R)PJc5^ 內(nèi)容簡介 }
$uxJB Macleod軟件自帶的用戶手冊功能全面，其介紹涵蓋了軟件的方方面面，能夠使用戶快速的了解和熟悉軟件的基本操作。然而，為了順應(yīng)目前薄膜行業(yè)的需求，急需一本能夠契合軟件設(shè)計和實(shí)際加工需要的專業(yè)書籍，以能夠幫助薄膜領(lǐng)域的同行高效的完成相關(guān)工作，因此，我們特別推出了《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計技術(shù)》。 H1 I{/g 《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計技術(shù)》（原著第二版）是世界著名光學(xué)薄膜專家Macleod先生40多年豐富工作經(jīng)驗(yàn)的總結(jié)，結(jié)合當(dāng)前市場占有率極高的光學(xué)薄膜設(shè)計與分析軟件Essential Macleod，其內(nèi)容豐富，實(shí)用性強(qiáng)。書中不僅有成熟的光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)、計算公式和分析方法，還有關(guān)于光學(xué)薄膜技術(shù)討論和解決方案以及全面考慮了薄膜的設(shè)計、分析、制造等各方面問題，如第8章中40個經(jīng)典案例分析。本書共設(shè)置21章節(jié)，首先，從光學(xué)薄膜的基本理論出發(fā)（第2章），為大家介紹了設(shè)計一個薄膜所必備的基礎(chǔ)知識。其次，在第3至第7章主要介紹了Macleod軟件的相關(guān)操作，以幫助大家在較短的時間快速熟悉軟件操作界面。最后，從第9章至21章開始重點(diǎn)闡述軟件中的反演工程、提取光學(xué)常數(shù)、公差分析、薄膜顏色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模塊如何與實(shí)際相結(jié)合，從而使大家將理論知識與實(shí)際經(jīng)驗(yàn)結(jié)合起來，對實(shí)際鍍膜提出實(shí)用的建議，以減少設(shè)計時間并降低生產(chǎn)成本。 > *@y8u* 薄膜光學(xué)涵蓋范圍很廣，書中并附設(shè)計光盤和參考文獻(xiàn)，有興趣者可依此深入研究，為精準(zhǔn)起見，在不影響理解的情況下，盡最大可能保留原文意思。譯者希望本書能夠?qū)氖卤∧ば袠I(yè)的人員有所幫助，通過學(xué)習(xí)之后能夠較好地完成其所承擔(dān)的光學(xué)任務(wù)。然而由于個人能力之局限，書中錯誤紕漏之處在所難免，本書若有不周之處，尚請讀者不吝賜教。 XEC(P =81@ o,1w 訊技科技股份有限公司 2015年9月3日 "~=mG--I
目錄 1?)Xp| O
Preface 1 GQ*wc?f3
內(nèi)容簡介 2 |UP `B |
目錄 i $|] " W=h
1 引言 1 76>7=#m0u'
2 光學(xué)薄膜基礎(chǔ) 2 1J6,]M
2.1 一般規(guī)則 2 xO1[>W
2.2 正交入射規(guī)則 3 J~B<7O<?!1
2.3 斜入射規(guī)則 6 {*[\'!d--.
2.4 精確計算 7 y'(Ne =y
2.5 相干性 8 Gq_-Val]"
2.6 參考文獻(xiàn) 10 ]E_h
3 Essential Macleod的快速預(yù)覽 10 S5KEXnjm
4 Essential Macleod的特點(diǎn) 32 HODz* pI
4.1 容量和局限性 33 qzI&< 4
4.2 程序在哪里？ 33 a k ->ML
4.3 數(shù)據(jù)文件 35 BJgW,huLy
4.4 設(shè)計規(guī)則 35 3l[Mc Z
4.5 材料數(shù)據(jù)庫和資料庫 37 bKj%s@ x
4.5.1材料損失 38 baJxU:Y=p
4.5.1材料數(shù)據(jù)庫和導(dǎo)入材料 39 iv?g Zg
4.5.2 材料庫 41 61/. K_%I.
4.5.3導(dǎo)出材料數(shù)據(jù) 43 a^Tm u
4.6 常用單位 43 fB gEnz/
4.7 插值和外推法 46 @+'-ADX
4.8 材料數(shù)據(jù)的平滑 50 ?q(\=;Y
4.9 更多光學(xué)常數(shù)模型 54 "VkTY|a
4.10 文檔的一般編輯規(guī)則 55 BBH0OiV=
4.11 撤銷和重做 56 JoRT&rkd
4.12 設(shè)計文檔 57 1rKlZsZ#*
4.10.1 公式 58 CNr/U*+
4.10.2 更多關(guān)于膜層厚度 59 } X^|$
4.10.3 沉積密度 59 }Ow >dV ?
4.10.4 平行和楔形介質(zhì) 60 e{X6i^%
m_
4.10.5 漸變折射率和散射層 60 56e r`=ms
4.10.4 性能 61 gzjR 6uz
4.10.5 保存設(shè)計和性能 64 6(]tYcC
4.10.6 默認(rèn)設(shè)計 64 5k6mmiaKk
4.11 圖表 64 Oy <5>2^P
4.11.1 合并曲線圖 67
|
