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[技術(shù)]JCMSuite應(yīng)用—衰減相移掩模 [復(fù)制鏈接]

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在本示例中，模擬了衰減相移掩模。該掩模將線/空間圖案成像到光刻膠中。掩模的單元格如下圖所示：

掩模的基板被具有兩個開口的吸收材料所覆蓋。在其中一個開口的下方，位于相移區(qū)域。