主要用于介紹如何在OptiBPM中創(chuàng)建一個簡單的多模干涉耦合器，主要步驟如下： l7{]jKJue  
• 定義MMI耦合器的材料； f+}Rj0A  
• 定義布局設(shè)定； R,3E_me"}  
• 創(chuàng)建一個MMI耦合器； @ve4rc/LI  
• 插入輸入面； 7z.(pg=  
• 運行模擬； /mdPYV  
• 在OptiBPM_Analyzer中預(yù)覽模擬結(jié)果。
YwbRzY-#F  
C]X:@^Hy  
1. 定義MMI耦合器的材料 O?p8Gjf  
    為了定義MMI耦合器的材料，需要進行如下操作： X jJV  
1) 通過File-New打開“初始性能對話框（Initial Properties）“ ^[UWG^d  
M-#
OPj*  
\BRxdK'  
2) 點擊圖1中的“輪廓和材料（Profiles And Materials）”以激活“輪廓設(shè)計窗口（Profile Designer）” |3Fo4K%+  
$A4rdhvd  
ym\AVRO{  
3) 右鍵單擊圖2中材料（Materials）標簽下的“電介質(zhì)（Dielectric）“，選擇New以激活電介質(zhì)材料創(chuàng)建窗口 xgdS]Sz  
0r4,27w  
     knX*fp  
)+Nm@+B  
4) 在圖3中窗口創(chuàng)建第一種電解質(zhì)材料： PIZnzZ@Z;  
− Name : Guide /0S2Omh  
− Refractive Index (Re) : 3.3 asT/hsSNS  
− 點擊“Store”以保存創(chuàng)建的第一種電解質(zhì)材料并關(guān)閉窗口 5} v(Ks>  
+%O_xq
q  

t:NYsL  
5) 重復(fù)步驟3）和4），創(chuàng)建第二種電解質(zhì)材料： G,{=sFX  
− Name : Cladding b`W2^/D  
− Refractive Index (Re) : 3.27 |"K<