在傳統(tǒng)的Talbot光刻中，在光敏層中僅使用一個圖像，但是可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的兩個圖像。在此示例中，遵循I.-H. Lee等人的工作，通過傅立葉模態(tài)法（FMM，也稱為RCWA）在VirtualLab Fusion中對具有一層圓錐體的相位掩模進行了建模。探測得到不同的Talbot像，柱狀圖位于主像面上，孔狀圖位于次像面上。 -Y+pLvG*  
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建模任務 V^tD@N  
Oa:C'M b  
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    結構和材料參數(shù)來自I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015) nZ=[6?  
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某一位置的Talbot圖樣 "3jTU
 
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某一位置的Talbot圖樣 4w|t|?  
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不同位置的Talbot圖樣 |}^u<S8X  
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沿Z軸的強度 gWjYS#D  
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走進VirtualLab Fusion 512p\x@  
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VirtualLab Fusion的工作流程 LV9R ]  
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 構建光柵結構 7Z+Fjy-B  
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 通過參數(shù)運行計算不同位置的強度 k"7ZA>5jk  
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VirtualLab Fusion技術 3,Z;J5VL4!  
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