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    [培訓(xùn)]《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)技術(shù)》(第二版 精裝) [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2022-11-02
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    內(nèi)容簡(jiǎn)介 0/%zXp&m  
    Macleod軟件自帶的用戶手冊(cè)功能全面,其介紹涵蓋了軟件的方方面面,能夠使用戶快速的了解和熟悉軟件的基本操作。然而,為了順應(yīng)目前薄膜行業(yè)的需求,急需一本能夠契合軟件設(shè)計(jì)和實(shí)際加工需要的專業(yè)書籍,以能夠幫助薄膜領(lǐng)域的同行高效的完成相關(guān)工作,因此,我們特別推出了《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)技術(shù)》。 <}e<Zf!  
        《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)技術(shù)》(原著第二版)是世界著名光學(xué)薄膜專家Macleod先生40多年豐富工作經(jīng)驗(yàn)的總結(jié),結(jié)合當(dāng)前市場(chǎng)占有率極高的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)與分析軟件Essential Macleod,其內(nèi)容豐富,實(shí)用性強(qiáng)。書中不僅有成熟的光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)、計(jì)算公式和分析方法,還有關(guān)于光學(xué)薄膜技術(shù)討論和解決方案以及全面考慮了薄膜的設(shè)計(jì)、分析、制造等各方面問題,如第8章中40個(gè)經(jīng)典案例分析。本書共設(shè)置21章節(jié),首先,從光學(xué)薄膜的基本理論出發(fā)(第2章),為大家介紹了設(shè)計(jì)一個(gè)薄膜所必備的基礎(chǔ)知識(shí)。其次,在第3至第7章主要介紹了Macleod軟件的相關(guān)操作,以幫助大家在較短的時(shí)間快速熟悉軟件操作界面。最后,從第9章至21章開始重點(diǎn)闡述軟件中的反演工程、提取光學(xué)常數(shù)、公差分析、薄膜顏色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模塊如何與實(shí)際相結(jié)合,從而使大家將理論知識(shí)與實(shí)際經(jīng)驗(yàn)結(jié)合起來,對(duì)實(shí)際鍍膜提出實(shí)用的建議,以減少設(shè)計(jì)時(shí)間并降低生產(chǎn)成本。 IX3r$}4  
    薄膜光學(xué)涵蓋范圍很廣,書中并附設(shè)計(jì)光盤和參考文獻(xiàn),有興趣者可依此深入研究,為精準(zhǔn)起見,在不影響理解的情況下,盡最大可能保留原文意思。譯者希望本書能夠?qū)氖卤∧ば袠I(yè)的人員有所幫助,通過學(xué)習(xí)之后能夠較好地完成其所承擔(dān)的光學(xué)任務(wù)。然而由于個(gè)人能力之局限,書中錯(cuò)誤紕漏之處在所難免,本書若有不周之處,尚請(qǐng)讀者不吝賜教。 gDA hl  
    訊技科技股份有限公司
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    目錄 "c}b qoN  
    Preface 1 9eV@v  
    內(nèi)容簡(jiǎn)介 2 dCc*<S  
    目錄 i DF-og*V  
            1  引言 1 UH)A n:9  
            2  光學(xué)薄膜基礎(chǔ) 2 f",B;C  
            2.1  一般規(guī)則 2 s*S@} l  
            2.2  正交入射規(guī)則 3 >si<VCO  
            2.3  斜入射規(guī)則 6 $1w8GI\J  
            2.4  精確計(jì)算 7 KLoHjBq  
            2.5  相干性 8 j\W+wnAgk  
            2.6 參考文獻(xiàn) 10 &)wQ|{P~k  
            3  Essential Macleod的快速預(yù)覽 10 K r9 @  
            4  Essential Macleod的特點(diǎn) 32 7%0PsF _  
            4.1  容量和局限性 33 Q.5a"(d@  
            4.2  程序在哪里? 33 jx-W$@  
            4.3  數(shù)據(jù)文件 35 _)p%  
            4.4  設(shè)計(jì)規(guī)則 35 b]J_R"}  
            4.5  材料數(shù)據(jù)庫和資料庫 37 &^z~wJ,]  
            4.5.1材料損失 38 r<"1$K~Ka  
            4.5.1材料數(shù)據(jù)庫和導(dǎo)入材料 39 \ii^F?+b  
            4.5.2 材料庫 41 uD+;5S]us  
            4.5.3導(dǎo)出材料數(shù)據(jù) 43 /+3|tb  
            4.6  常用單位 43 XX/cJp  
            4.7  插值和外推法 46 <8H`y(S  
            4.8  材料數(shù)據(jù)的平滑 50 $ccI(J`zux  
            4.9 更多光學(xué)常數(shù)模型 54 C=.  
            4.10  文檔的一般編輯規(guī)則 55 V+E2nJ  
            4.11 撤銷和重做 56 u[cbRn,W  
            4.12  設(shè)計(jì)文檔 57 ptUnV3h  
            4.10.1  公式 58 }|x]8zL8G  
            4.10.2 更多關(guān)于膜層厚度 59 AN^;~m