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=E62N7_`= &88c@Ksn 內(nèi)容簡(jiǎn)介 +g;{c+Kw: Macleod軟件自帶的用戶(hù)手冊(cè)功能全面，其介紹涵蓋了軟件的方方面面，能夠使用戶(hù)快速的了解和熟悉軟件的基本操作。然而，為了順應(yīng)目前薄膜行業(yè)的需求，急需一本能夠契合軟件設(shè)計(jì)和實(shí)際加工需要的專(zhuān)業(yè)書(shū)籍，以能夠幫助薄膜領(lǐng)域的同行高效的完成相關(guān)工作，因此，我們特別推出了《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)技術(shù)》。 t +|t/1s2 《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)技術(shù)》（原著第二版）是世界著名光學(xué)薄膜專(zhuān)家Macleod先生40多年豐富工作經(jīng)驗(yàn)的總結(jié)，結(jié)合當(dāng)前市場(chǎng)占有率極高的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)與分析軟件Essential Macleod，其內(nèi)容豐富，實(shí)用性強(qiáng)。書(shū)中不僅有成熟的光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)、計(jì)算公式和分析方法，還有關(guān)于光學(xué)薄膜技術(shù)討論和解決方案以及全面考慮了薄膜的設(shè)計(jì)、分析、制造等各方面問(wèn)題，如第8章中40個(gè)經(jīng)典案例分析。本書(shū)共設(shè)置21章節(jié)，首先，從光學(xué)薄膜的基本理論出發(fā)（第2章），為大家介紹了設(shè)計(jì)一個(gè)薄膜所必備的基礎(chǔ)知識(shí)。其次，在第3至第7章主要介紹了Macleod軟件的相關(guān)操作，以幫助大家在較短的時(shí)間快速熟悉軟件操作界面。最后，從第9章至21章開(kāi)始重點(diǎn)闡述軟件中的反演工程、提取光學(xué)常數(shù)、公差分析、薄膜顏色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模塊如何與實(shí)際相結(jié)合，從而使大家將理論知識(shí)與實(shí)際經(jīng)驗(yàn)結(jié)合起來(lái)，對(duì)實(shí)際鍍膜提出實(shí)用的建議，以減少設(shè)計(jì)時(shí)間并降低生產(chǎn)成本。 iB5q "hoZC 薄膜光學(xué)涵蓋范圍很廣，書(shū)中并附設(shè)計(jì)光盤(pán)和參考文獻(xiàn)，有興趣者可依此深入研究，為精準(zhǔn)起見(jiàn)，在不影響理解的情況下，盡最大可能保留原文意思。譯者希望本書(shū)能夠?qū)氖卤∧ば袠I(yè)的人員有所幫助，通過(guò)學(xué)習(xí)之后能夠較好地完成其所承擔(dān)的光學(xué)任務(wù)。然而由于個(gè)人能力之局限，書(shū)中錯(cuò)誤紕漏之處在所難免，本書(shū)若有不周之處，尚請(qǐng)讀者不吝賜教。 i>KgkRZ L# 訊技科技股份有限公司 OAaLCpRp
eo~b]D VRTJKi 目錄 [X7gP4 Preface 1 zt!7aVm
n 內(nèi)容簡(jiǎn)介 2 b94+GL U8b 目錄 i 6xFchdMG{m 1 引言 1 xDNXI01o 2 光學(xué)薄膜基礎(chǔ) 2 juI)Do 2_ 2.1 一般規(guī)則 2 yxi&80$ 2.2 正交入射規(guī)則 3 fw5+eTQ^ 2.3 斜入射規(guī)則 6 ?6UjD5NkX 2.4 精確計(jì)算 7 ] Up r<! 2.5 相干性 8 sL,|+>7T^M 2.6 參考文獻(xiàn) 10 tt|P-p- 3 Essential Macleod的快速預(yù)覽 10 7K1_$vd 4 Essential Macleod的特點(diǎn) 32 %
s@ 4.1 容量和局限性 33 MnlD87x@X 4.2 程序在哪里？ 33 ,w
f6gmh8 4.3 數(shù)據(jù)文件 35 {|'NpV 4.4 設(shè)計(jì)規(guī)則 35 z<%d Wz 4.5 材料數(shù)據(jù)庫(kù)和資料庫(kù) 37 bVzJOBe 4.5.1材料損失 38 _
^'QHWP 4.5.1材料數(shù)據(jù)庫(kù)和導(dǎo)入材料 39 S$gLL kD1 4.5.2 材料庫(kù) 41 q/Zs]Gz 4.5.3導(dǎo)出材料數(shù)據(jù) 43 wYLodMaYH 4.6 常用單位 43 H^dw=kS 4.7 插值和外推法 46 y\,,hs 4.8 材料數(shù)據(jù)的平滑 50 >
H&v 4.9 更多光學(xué)常數(shù)模型 54 0+&K; 4.10 文檔的一般編輯規(guī)則 55 xUNq!({T 4.11 撤銷(xiāo)和重做 56 &DjA?0`J 4.12 設(shè)計(jì)文檔 57 6&QOC9JW+7 4.10.1 公式 58 ' 6)Yf}I 4.10.2 更多關(guān)于膜層厚度 59 fhyoSRLR: 4.10.3 沉積密度 59 ObJ -XNcNH 4.10.4 平行和楔形介質(zhì) 60 Z>l|R C 4.10.5 漸變折射率和散射層 60 Nwd rJ w9 4.10.4 性能 61 eSHsE 3}h
4.10.5 保存設(shè)計(jì)和性能 64 eeBW~_W 4.10.6 默認(rèn)設(shè)計(jì) 64 5$Kd<ky 4.11 圖表 64 R"l6|9tmP 4.11.1 合并曲線圖 67 7w]3D 4.11.2 自適應(yīng)繪制 68 +4 3~4_Oj 4.11.3 動(dòng)態(tài)繪圖 68 HCCq9u s 4.11.4 3D繪圖 69 4>HaKJ-c# 4.12 導(dǎo)入和導(dǎo)出 73 MPK
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