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    [培訓(xùn)]Macleod薄膜專題設(shè)計——中高級班 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2022-11-14
    [table=1200,#e9f0f3,,1][tr][td] $1< ~J  
    時間地點:[/td][/tr][tr][td] =, WW#tD  
    主辦單位:訊技光電科技(上海)有限公司(微信公眾號:infotek) T>e4Og"?  
    協(xié)辦單位:蘇州黌論教育咨詢有限公司(微信公眾號:honglun-seminary) uL1$yf'  
    授課時間:2022年11月25日(五)-27日(日)共3天  AM 9:00-PM 16:00 eABLBsx  
    授課地點:上海市嘉定區(qū)南翔銀翔路819號中暨大廈18樓1805室 }+3v5Nz;  
    課程費用4800元(包含課程材料費、開票稅金、午餐費用) s?-J`k~q  
    授課講師:訊技光電高級工程師[/td][/tr][tr][td]課程簡介:[/td][/tr][tr][td] WAWy3i  
    當(dāng)收到需求者的光學(xué)規(guī)格及非光學(xué)規(guī)格如環(huán)境測試要求時,既可以著手選用所需的基板,鍍膜材料及膜數(shù)與厚度設(shè)計。設(shè)計開始可以從標(biāo)準(zhǔn)膜系著手,例如高反射鏡不管波寬大小,開始我們一定是以四分之一波膜堆為設(shè)計基礎(chǔ),倘若是截止濾光片,則應(yīng)以對稱膜堆為設(shè)計基礎(chǔ)。當(dāng)初始設(shè)計無法滿足要求時,我們需要考慮商業(yè)軟件或自行設(shè)計電腦軟件來參與合成或優(yōu)化,設(shè)計好之后,即刻進(jìn)行制造成功率分析,亦看膜層厚度的誤差值的容許度,若是鍍膜機的精密度做不到,則要修改設(shè)計,重新分析直到合格為止。 l$mfsm|{:  
    課程涵蓋Macleod軟件所有模塊、光學(xué)薄膜膜系設(shè)計與優(yōu)化方法。培訓(xùn)期間針對實例,演示完整的光學(xué)薄膜設(shè)計與分析過程。課程旨在讓各界相關(guān)技術(shù)人員快速知悉軟件的各項功能的同時,并通過相關(guān)的實例演示掌握該軟件在光學(xué)鍍膜領(lǐng)域的具體應(yīng)用。[/td][/tr][tr][td][/td][/tr][tr][td]課程大綱:[/td][/tr][tr][td] qQ=\R1l  
    1. 軟件基礎(chǔ)入門 w]Byl3}Gt  
    軟件簡介 sn=_-uoU  
    軟件計算方法簡介 2C@s-`b   
    程序基本框架和全局參數(shù)設(shè)置 v==]v2 -  
    程序中使用的各種術(shù)語的定義 2F- ]0kGR|  
    2. 圖表 EKTn$k=  
    繪圖和制表來表示性能 WK)2/$7@  
    3D繪圖-用兩個變量繪圖表示性能 6B .x=  
    交互式繪圖的使用 B+Ox#[<75  
    3. 材料管理 fBZAO  
    材料的獲取 a3?D@@Qnw  
    材料的導(dǎo)入與導(dǎo)出 DuV@^qSbG.  
    材料數(shù)據(jù)平滑與插值 t;2\(_A  
    用包絡(luò)法推導(dǎo)介質(zhì)膜的光學(xué)常數(shù) fAHf}j  
    利用光譜儀的測量值計算基底光學(xué)常數(shù) 6OOdVS3\J  
    材料模型擬合(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) co-dq\P  
    4. 薄膜設(shè)計與優(yōu)化簡介 KM o]J1o  
    優(yōu)化與合成功能說明 H1^m>4ll9  
    優(yōu)化目標(biāo)&評價函數(shù)(Simplex, Optimac, Simulated Annealing, Conjugate Gradient, Quasi-Newton, Needle, Differential Evolution, Non-Local) m.0: R  
    膜層鎖定和鏈接 p.50BcDg  
    減反膜優(yōu)化 #eKg!]4-R  
    高反膜優(yōu)化 \cKY{(E  
    濾光片優(yōu)化 {=)g?!zC  
    斜入射光學(xué)薄膜 x.ZW%P1  
    5. 反演工程 &]xOjv/?  
    鍍膜過程中兩種主要的誤差(系統(tǒng)誤差和隨機誤差) /rQ[Ik$|  
    使用反演工程來控制對設(shè)計的搜索,該設(shè)計代表實際生產(chǎn)的產(chǎn)品 {!G  
    6. 分析工具 i=mk#.j~  
    顏色模型和分析工具 b?Zt3#  
    公差工具和良品率預(yù)估 $~s|%>@  
    靈敏度分析 d} {d5-_a  
    7. 附加模塊-Vstack ~n<U8cm O  
    非平行平面鍍膜 q` Z_Bw  
    棱鏡鍍膜透反吞吐量評估 ? ^l{t4  
    8. 附加模塊-DWDM Rx,Qw> #  
    光通信用窄帶濾光片模擬 P9/Bc^5'  
    9. 附加模塊-Runsheet&Simulator ln~;Osb  
    光控機器設(shè)置顯示鍍膜過程中預(yù)期的監(jiān)測信號 KbP( ;  
    鍍膜沉積過程噪聲信號模擬 5UU1HC;C  
    10. 附加模塊-Function rz'A#-?'oG  
    如何在Function中編寫腳本 YrRD3P.P  
    案例:自定義畫圖 [>^xMF]$2  
    案例:太陽能抗反射薄膜分析 Dx1