華為EUV光刻新專利:解決相干光無法勻光問題
據(jù)報道,華為周二公布了一項新專利,展示了一種《反射鏡、光刻裝置及其控制方法》,而這種方法便能夠解決相干光因形成固定的干涉圖樣而無法勻光的問題,在極紫外光的光刻裝置基礎(chǔ)上進行了優(yōu)化,進而達到勻光的目的。 ![]() 專利名稱:反射鏡、光刻裝置及其控制方法 專利申請?zhí)枺篊N202110524685.X 該專利提供一種光刻裝置,該光刻裝置通過不斷改變相干光形成的干涉圖樣,使得照明視場在曝光時間內(nèi)的累積光強均勻化,從而達到勻光的目的,進而也就解決了相關(guān)技術(shù)中因相干光形成固定的干涉圖樣而無法勻光的問題。 ![]() 該光刻裝置包括相干光源 1、反射鏡 2 (也可以稱為去相干鏡)、照明系統(tǒng) 3。其中,反射鏡 2 可以進行旋轉(zhuǎn);例如,可以在光刻裝置中設(shè)置旋轉(zhuǎn)裝置,反射鏡 2 能夠在旋轉(zhuǎn)裝置的帶動下發(fā)生旋轉(zhuǎn)。在該光刻裝置中,相干光源 1 發(fā)出的光線經(jīng)旋轉(zhuǎn)的反射鏡 2 的反射后,通過照明系統(tǒng) 3 分割為多個子光束并投射至掩膜版 4 上,以進行光刻。 在光刻裝置中,上述照明系統(tǒng) 3 作為重要組成部分,其主要作用是提供高均勻性照明 (勻光)、控制曝光劑量和實現(xiàn)離軸照明等,以提高光刻分辨率和增大焦深。 照明系統(tǒng) 3 的勻光功能可以是通過科勒照明結(jié)構(gòu)實現(xiàn)的。 ![]() 該照明系統(tǒng) 3 包括視場復(fù)眼鏡 31 (field flyeye mirror,F(xiàn)FM)、光闌復(fù)眼鏡 32 (diaphragm flyeye mirror,PFM)、中繼鏡組 33;其中,中繼鏡組 33 通?梢园▋蓚或者兩個以上的中繼鏡。照明系統(tǒng) 3 通過視場復(fù)眼鏡 31 將來自相干光源 1 的光束分割成多個子光束,每個子光束再經(jīng)光闌復(fù)眼鏡 32 進行照射方向和視場形狀的調(diào)整,并通過中繼鏡組 33 進行視場大小和 / 或形狀調(diào)整后,投射到掩膜版 4 的照明區(qū)域。 |