具有直壁或傾斜側(cè)壁的二元光柵已成為許多光學應用中的關(guān)鍵部件。 感謝納米壓印技術(shù)，使小尺寸的光柵的制造已經(jīng)變得可行。 VirtualLab Fusion采用內(nèi)置的傅里葉模態(tài)方法（FMM，也稱為RCWA）和不同的優(yōu)化算法，為二元光柵提供了完整的用戶友好的設(shè)計工作流程，和隨后的制造誤差分析，如圓邊效應。

高效偏振無關(guān)透射光柵的分析與設(shè)計

    

我們演示了如何嚴格分析二元光柵的偏振相關(guān)特性; 以及如何優(yōu)化二元結(jié)構(gòu)以獲得高偏振無關(guān)的衍射效率。

傾斜光柵的參數(shù)優(yōu)化與公差分析

    

利用傅立葉模態(tài)法（FMM）優(yōu)化傾斜光柵，以實現(xiàn)將光耦合到波導中的高衍射效率。 分析制造公差，如圓形邊緣。