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    [技術(shù)]干涉條紋研究 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2022-12-26
    eC='[W<a.  
    干涉測(cè)量是用于精確測(cè)量中最廣泛應(yīng)用的技術(shù)之一。通過(guò)觀察和研究條紋圖案,可以判斷表面形狀質(zhì)量或關(guān)于光譜帶寬的儀表信息。利用VirtualLab Fusion中非序列場(chǎng)追跡技術(shù),可以輕松地設(shè)置和分析光學(xué)干涉儀。在這里提出兩個(gè)經(jīng)典的基于邁克爾遜干涉儀的例子:一個(gè)高質(zhì)量相干激光光源,另一個(gè)寬帶白光光源。 COL_c<\  
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    基于激光的邁克爾遜干涉儀 /Z2 g >  
    7 V=%&+  
         (,['6k<  
    借助VirtualLab Fusion中非序列追跡技術(shù)建立了該邁克爾遜干涉儀,并展示了不同配置中的干涉條紋。 MC_i"P6a  
    `G2!{3UD  
    白光邁克爾遜干涉儀 Mb+CtI_'  
    9u1Fk'cxG,  
         2 W Wr./q  
    模擬使用氙氣燈作為光源的邁克爾遜干涉儀,充分考慮了光源的光譜特性(有限的相干長(zhǎng)度)。
     
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