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    [技術]斜光柵的高級配置 [復制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2023-02-16
    VirtualLab可用于分析任意光柵類型。斜光柵在復雜光學系統(tǒng)中已經(jīng)可以實現(xiàn)，并且其重要性在提高。斜光柵通過特殊光學介質(zhì)實現(xiàn)，以此定義其一般性的幾何結構。而且，幾個高級規(guī)格選項可用，例如，添加一個完整和部分涂層。這個案例解釋了配置的可用選項，并且討論了其對光柵結構的影響。 y:zo/#34  
    4ng*SE _  
    f3]u-e'b  
    I#tEDeF2  
    介質(zhì)目錄中的斜光柵介質(zhì) 'd@Vusq}2  
    7J%v""\1!  
     6@ HY+RCx  
    4)3!n*I  
     內(nèi)置斜光柵介質(zhì)可以在VirtualLab的嵌入的介質(zhì)目錄中找到。 ^D0BGC&&  
     可用于設置復雜光學光柵結構（所謂的堆棧）和傅里葉模式法（FMM）分析。 e[@ ^UY  
     ~-w  
    斜光柵介質(zhì)的編輯對話框 m'%Z53&  
    'k9hzk(*  
    y'k4>,`9e  
    !u#o"e<qh  
     斜光柵介質(zhì)為周期性結構自定義提供很多選項。 ].2it{gF?b  
     首先，光柵脊和槽的材料必須在基礎參數(shù)選項中定義。 u? f3&pA  
     這些材料既可以從材料目錄選擇，也可以通過折射率定義。     E4'D4@\W  
    斜光柵介質(zhì)的編輯對話框 )LYj,do  
    $u4esg  
     uXNf)?MpA  
    @zJ#16V i  
     在材料設置下面，可以定義光柵的幾何結構。 ;v6e2NacM'  
     以下參數(shù)可用： | We @p  
    - 填充率（定義光柵的上部分和下部分） 5W!E.fz*T  
    - z擴展（沿著z方向測量光柵高度） s geP`O%  
    - 傾斜角度左（脊左側的傾斜角） G\H@lFh  
    - 傾斜角度右（脊右側的傾斜角） ?mt$c6-  
    o+O\VNW  
    如果傾斜角相同，通過點擊不等號關聯(lián)兩個設置。     `q exEk@S  
    lm&C!{K  
    斜光柵介質(zhì)的編輯對話框 A_%}kt (6  
    uBks#Y*3$  
    3RRZVc* ^  
    ZH%[wQ~4  
     為了添加可配置的涂層，必須激活應用涂層（Apply Coating）選項。 7q|(ZZa  
     現(xiàn)在，額外的選項和結構的圖形一起顯示。 ?#kI9n<O  
     m[{*an\  
    斜光柵介質(zhì)的編輯對話框 kx1-.~)p(z  
    w'5~GhnP+  
    jq["z<V )x  
    l{Hi5x'H  
    U &Ay3/  
     首先，必須選擇涂層材料。 ^%d+nKx9nL  
     同樣地，材料可以從材料目錄中選擇，也可以通過折射率定義。 0{PK]qp7  
     接著，分別配置每個側壁，頂壁和底壁的涂層厚度，如草圖所示。 "eQ9