|
|
VirtualLab可用于分析任意光柵類型。斜光柵在復(fù)雜光學(xué)系統(tǒng)中已經(jīng)可以實(shí)現(xiàn)，并且其重要性在提高。斜光柵通過(guò)特殊光學(xué)介質(zhì)實(shí)現(xiàn)，以此定義其一般性的幾何結(jié)構(gòu)。而且，幾個(gè)高級(jí)規(guī)格選項(xiàng)可用，例如，添加一個(gè)完整和部分涂層。這個(gè)案例解釋了配置的可用選項(xiàng)，并且討論了其對(duì)光柵結(jié)構(gòu)的影響。 )]!Ps` ,u
%FQMB
 n6[bF "v
(^Xp\dyZL
介質(zhì)目錄中的斜光柵介質(zhì) `pN"T?Pk
6 z"fBF
 *~M=2Fj;i dh%C@n:B 內(nèi)置斜光柵介質(zhì)可以在VirtualLab的嵌入的介質(zhì)目錄中找到。 Vf*!m~]Vqi 可用于設(shè)置復(fù)雜光學(xué)光柵結(jié)構(gòu)（所謂的堆棧）和傅里葉模式法（FMM）分析。 ;k/y[ x}
b mc1S 斜光柵介質(zhì)的編輯對(duì)話框 WKqNJN C bc5+}&W  ,v$gQ U2
BXaA#} ;e
斜光柵介質(zhì)為周期性結(jié)構(gòu)自定義提供很多選項(xiàng)。 yEtSyb~GK
首先，光柵脊和槽的材料必須在基礎(chǔ)參數(shù)選項(xiàng)中定義。 =+97VO(w]G
這些材料既可以從材料目錄選擇，也可以通過(guò)折射率定義。 e6k}-<W*q 斜光柵介質(zhì)的編輯對(duì)話框 '+Dn~8Y+9
xzy7 I6X
 9IMtqL&
t</rvAH E
在材料設(shè)置下面，可以定義光柵的幾何結(jié)構(gòu)。 Wk'KN o
以下參數(shù)可用： XY1NTo. =
- 填充率（定義光柵的上部分和下部分） O:RPH{D
- z擴(kuò)展（沿著z方向測(cè)量光柵高度） ,y3o ,gl
- 傾斜角度左（脊左側(cè)的傾斜角） y)|Q~8r
- 傾斜角度右（脊右側(cè)的傾斜角） U#+S9jWe
BkJV{>?_+
如果傾斜角相同，通過(guò)點(diǎn)擊不等號(hào)關(guān)聯(lián)兩個(gè)設(shè)置。 ]}8<h5h) ji o1 #& 斜光柵介質(zhì)的編輯對(duì)話框 & m`1lxT <m`HK.|~
|
