1. 描述 通過(guò)該案例,介紹如何配置光源來(lái)模擬在一個(gè)平面上的不同輻射。 在一般的VirtualLab中,區(qū)分了相干光源模型和部分相干光源模型。 橫向和光譜輻射特性可以通過(guò)以下方式進(jìn)行定義: — 預(yù)設(shè)公式 — 測(cè)量數(shù)據(jù) — 用戶(hù)自定義的公式 光源沒(méi)有輸入且只有一個(gè)輸出通道。 VirtualLab中,除了激光諧振器工具箱外,光源內(nèi)部的處理不做仿真。 2. 光路圖中的光源 3. 光源-基本參數(shù) 通過(guò)基本參數(shù)表可以配置光源的所有共性參數(shù)。 可以輸入一個(gè)距離光源平面的橫向偏移和距離。 用戶(hù)可以直接定義光源后的介質(zhì)。 支持以下附加配置: — 場(chǎng)尺寸 — 場(chǎng)形狀(矩形,橢圓) — 邊緣寬度(切趾) 4. 光源-場(chǎng)尺寸和形狀 大多數(shù)分析的光分布都是無(wú)限擴(kuò)展的 對(duì)于計(jì)算機(jī),所有的光分布必須是有限擴(kuò)展的。 VirtualLab中引入了場(chǎng)尺寸、場(chǎng)形狀和邊緣寬度(切趾)的概念, 通過(guò)在場(chǎng)邊緣使用高斯切趾減小數(shù)值誤差。 場(chǎng)尺寸可自動(dòng)定義也可手動(dòng)定義。 此外,提出的場(chǎng)尺寸可以通過(guò)場(chǎng)尺寸因子進(jìn)行更改。 5. 光源-空間參數(shù) 在空間參數(shù)頁(yè)面,用戶(hù)可以定義橫向分布的附加參數(shù)。 空間參數(shù)的具體內(nèi)容是根據(jù)光源配置決定的。 6. 光源-偏振 在偏振表中,用戶(hù)可以定義光源的偏振特性。 以下偏振類(lèi)型可用: — 線性偏振(輸入到X軸的角度) — 圓偏振(左旋或右旋偏振) — 橢圓偏振(定義偏振橢圓) — 一般的(輸入瓊斯矩陣) 偏振最終是以瓊斯矩陣來(lái)表示的。 7. 光源-光譜參數(shù) 用戶(hù)可以在3種不同的的模式中選擇 — 單波長(zhǎng)(單色仿真) — 三波長(zhǎng)(三個(gè)波長(zhǎng),并通過(guò)權(quán)重進(jìn)行定義) — 波長(zhǎng)列表(帶權(quán)重的波長(zhǎng)列表,通過(guò)圖表或ASCII導(dǎo)入) 如果是可見(jiàn)光則結(jié)果顯示為色彩,否則為黑色。 8. 光源-光譜生成器 在光源工作區(qū)內(nèi)有幾種生成器,可用于定義光源和脈沖的光譜 生成的數(shù)據(jù)陣列可以表示光譜信息,并可導(dǎo)入光源。 9. 光源-采樣 在采樣選項(xiàng)卡中,用戶(hù)可以定義用于生成場(chǎng)的采樣參數(shù)。 在VirtualLab中提供了一個(gè)默認(rèn)的自動(dòng)采樣模型,該模型已能夠滿足大部分情況的需要。 自動(dòng)采樣建議可以使用采樣因子來(lái)修改 如果需要,用戶(hù)也可以手動(dòng)定義采樣。 手動(dòng)模式下,用戶(hù)可以選擇修正采樣點(diǎn)數(shù)量或者采樣距離。 嵌入因子用來(lái)在數(shù)據(jù)點(diǎn)附近引入零填充。 因此,輸入平面上用于表示光源的整體尺寸通過(guò)下式定義: 數(shù)組通過(guò)以下定義: warray—>數(shù)組尺寸 wfield size—>場(chǎng)尺寸 wedge width—>絕對(duì)邊緣寬度 ∆x —>采樣距離 Nembedding—>采樣點(diǎn)處嵌入窗口寬度 10. 光源-光線選擇 用戶(hù)可以定義產(chǎn)生的光線的數(shù)量和模式(用與光線追跡) 支持以下光線模式: — x-y –網(wǎng)格(在x和y上的等距網(wǎng)格) — 六角形(定義光線的密度) — 隨機(jī)的(隨機(jī)分布的光線數(shù)量) 11. 光源-模式選擇 對(duì)于部分相干光模式,該模式的位置和權(quán)重可以在模式選項(xiàng)卡中定義。 對(duì)于所有的光源,用戶(hù)可以修改模式并生成光源。 此選項(xiàng)僅可用于產(chǎn)生模式的一個(gè)子集以來(lái)檢測(cè)光源和系統(tǒng)的總體性能。 12. 在主窗口中生成光源 也可以在主菜單中引入一個(gè)光源生成器生成諧波場(chǎng)(光源設(shè)置)。 對(duì)于基本光源,可以指定單色或多色的不同相干光源。 對(duì)于部分相干光模式,主窗口中也有可用的生成器。 這些光源可以用于,如仿真LED,受激準(zhǔn)分子激光器和多模激光器仿真 13. 總結(jié) VirtualLab中的光源生成器不僅應(yīng)用非常靈活,而且界面友好,易于定義用于進(jìn)一步的模擬或操作的光源場(chǎng)。 通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)的方式指定光源所有參數(shù),使用戶(hù)對(duì)使用的概念更加熟悉,并可通過(guò)相同的步驟配置所有光源。 VirtualLab中不僅可以模擬基本光源(如球面場(chǎng)、平面場(chǎng)以及高斯光場(chǎng))也可模擬部分相干光源(仿真LED,受激準(zhǔn)分子激光器和多模激光器)。 |