首先聲明一下，在這里表達(dá)的只是個(gè)人看法，并不一定有道理。 SREDM  
關(guān)于鍍膜，大家都追求的是鍍膜的連續(xù)性和穩(wěn)定性。 1g~Dm}m  
甚至為了穩(wěn)定性，一些鍍膜機(jī)廠家寧可犧牲性能。 p9FA_(`^  
比如說鍍膜過程中使用APC充氧： Bo\a  
很多人認(rèn)為APC充氧只是為了給類似于TiO2這些易失氧膜料進(jìn)行補(bǔ)氧。 D..{|29,:  
其實(shí)不然。使用離子源的情況下，氧其實(shí)是足夠的。 sDaT[).Hm  
APC充氧還有一個(gè)重要的目的，維持鍍膜環(huán)境的穩(wěn)定性。 u)q2YLK8  
APC是自動(dòng)壓力控制的英文縮寫，它能起到穩(wěn)定真空腔體真空度的作用。 p56KS5duI.  
.4S^nP  
在真空中，有個(gè)平均自由程的概念，一個(gè)粒子平均運(yùn)動(dòng)多遠(yuǎn)才能和其他粒子碰撞。 }};j2  
真空度越高，平均自由程越長(zhǎng)，電子槍和離子源發(fā)出來(lái)原子或者離子就會(huì)更多的到達(dá)基板表面。 w0a+8gexi  
但是隨著腔體的逐漸變臟，鍍膜時(shí)候的真空度會(huì)變差，到達(dá)基板的原子和離子就會(huì)變少。 SY!`a:It  
一般會(huì)表現(xiàn)為外圈和內(nèi)圈的分布變化，還有折射率的變化。 OPvj{Dv$0  
為了讓分布和折射率穩(wěn)定，在鍍膜過程中使用APC是個(gè)解決的辦法。 }aHB$}"!  
#}[Sj-Vp  
APC充氧口（也有充氮，充其他氣體的）的位置也很重要。 &^CL]&/  
如果是補(bǔ)氧和維持真空度兼而有之的，一般充氧口放在底板的中心位置。 [?|l X$<  
如果有其他特殊原因（比如說工藝和外觀的要求），會(huì)有在傘圈下方100mm處放置一個(gè)充氧環(huán)， tJ?qcT?  
均勻開孔以便于均勻充氧。

補(bǔ)充幾個(gè)和真空相關(guān)的因素： Ct =E;v7}  
1，真空計(jì)污染：皮拉尼真空計(jì)容易受污染， PTuCN  
所以清掃機(jī)臺(tái)的時(shí)候最好拆掉。清掃完再裝上。 ({d,oU$>y  
}$&T O$LX  
2，擴(kuò)散泵返油：使用劣質(zhì)回收油，或者擴(kuò)散泵口冷卻板冷卻不好的時(shí)候， p"hm.=
,  
擴(kuò)散泵容易返油，返油也會(huì)造成脫膜，膜質(zhì)不好，分布問題。

我都關(guān)掉鍍膜,因?yàn)镹BPF蒸鍍機(jī)開了鍍膜DWDM鍍不出來(lái) iGEQXIr3